[发明专利]一种无色移颜料及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202110133336.5 申请日: 2021-01-29
公开(公告)号: CN114806219A 公开(公告)日: 2022-07-29
发明(设计)人: 孙倩云 申请(专利权)人: 惠州市华阳光学技术有限公司
主分类号: C09C1/00 分类号: C09C1/00
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 叶新平
地址: 516005 广东省惠州市东江高*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 无色 颜料 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种无色移颜料,其特征在于,所述无色移颜料包括:

具有第一主表面和第二主表面的中间膜层A或者中间膜层B;

所述中间膜层A的第一主表面和第二主表面上均设置至少一个周期性结构;所述周期性结构至少包含两层,其中一层为金属层M,另一层为介质层N;

所述中间膜层B的第一主表面和第二主表面上均设置至少一层介质层C;

所述无色移颜料经过高温热处理,且在与外表面垂直方向以0-60°之间的角度观察退火处理后的颜料时,所述颜料在Lch色彩空间中△h具有小于30°的预定色移。

2.如权利要求1所述的无色移颜料,其特征在于,所述中间膜层A及中间膜层B为金属材料;优选地,所述金属材料为铝、铁、钛、银、金、铜、铂、锌、锆、铟、锡、锰、钽、铌、钒中的至少一种。

3.如权利要求2所述的无色移颜料,其特征在于,所述中间膜层A的物理厚度不小于10nm;优选地,所述中间膜层A的物理厚度为10-100nm;所述中间膜层B的物理厚度不小于15nm;优选地,所述中间膜层B的物理厚度为15-100nm。

4.如权利要求1所述的无色移颜料,其特征在于,所述中间膜层A为介质材料。

5.如权利要求4所述的无色移颜料,其特征在于,所述中间膜层A的物理厚度为50-300nm。

6.如权利要求4所述的无色移颜料,其特征在于,所述中间膜层A为折射率小于或等于1.65的介质材料;优选地,所述介质材料为二氧化硅、氧化铝、氟化镁、氟化铝、氟化铈、氟化镧、氟化钕、氟化钐、氟化钡、氟化钙和氟化锂中的至少一种。

7.如权利要求4所述的无色移颜料,其特征在于,所述中间膜层A为折射率大于1.65的介质材料;优选地,所述介质材料为钛酸镧、五氧化三钛、五氧化二铌、硫化锌、氧化锌、氧化锆、二氧化钛、碳、氧化铟、氧化铟锡、五氧化二钽、氧化铈、氧化钇、氧化铕、氧化铁、四氧化三铁、氮化铪、碳化铪、氧化铪、氧化镧、氧化镁、氧化钕、氧化镨、氧化钐、三氧化锑、碳化硅、氮化硅、一氧化硅、三氧化硒、氧化锡和三氧化钨中的至少一种。

8.如权利要求1所述的无色移颜料,其特征在于,所述金属层M的厚度不小于10nm;优选地,所述每个金属层M使用相同的厚度或所述每个金属层M至少有一个具有不相同的厚度。

9.如权利要求1或7所述的无色移颜料,其特征在于,所述金属层M的材料为铝、铁、钛、银、金、铜、铂、锌、锆、铟、锡、锰、钽、铌、钒中的至少一种。

10.如权利要求8所述的无色移颜料,其特征在于,所述每个金属层M使用相同的材料或者所述金属层M中至少有一个使用不同的材料。

11.如权利要求1所述的无色移颜料,其特征在于,所述介质层N的物理厚度为50-300nm,所述介质层C的物理厚度不小于150nm;优选地,所述每个介质层N使用相同的厚度或所述每个介质层N至少有一个具有不相同的厚度。

12.如权利要求1或10所述的无色移颜料,其特征在于,所述介质层N及介质层C为折射率小于或等于1.65的介质材料;优选地,所述介质层N及介质层C的介质材料为二氧化硅、氧化铝、氟化镁、氟化铝、氟化铈、氟化镧、氟化钕、氟化钐、氟化钡、氟化钙和氟化锂中的至少一种。

13.如权利要求1或10所述的无色移颜料,其特征在于,所述介质层N及介质层C为折射率大于1.65的介质材料;优选地,所述介质层N及介质层C的介质材料为钛酸镧、五氧化三钛、五氧化二铌、硫化锌、氧化锌、氧化锆、二氧化钛、碳、氧化铟、氧化铟锡、五氧化二钽、氧化铈、氧化钇、氧化铕、氧化铁、四氧化三铁、氮化铪、碳化铪、氧化铪、氧化镧、氧化镁、氧化钕、氧化镨、氧化钐、三氧化锑、碳化硅、氮化硅、一氧化硅、三氧化硒、氧化锡和三氧化钨中的至少一种。

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