[发明专利]一种凹印版辊的雕刻方法有效

专利信息
申请号: 202110133587.3 申请日: 2021-02-01
公开(公告)号: CN112937074B 公开(公告)日: 2022-07-05
发明(设计)人: 林元霞 申请(专利权)人: 莆田市烛火信息技术有限公司
主分类号: B41C1/05 分类号: B41C1/05
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 351100 福建省莆田市城厢区*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 凹印版辊 雕刻 方法
【说明书】:

发明公开一种凹印版辊的雕刻方法,包括:获取目标雕刻图像的各个带深度雕刻点的带深度平面坐标Ai(xi,yi,hi);根据所述带深度平面坐标Ai(xi,yi,hi),获取所述目标雕刻图像的各个所述带深度雕刻点在所述凹印版辊上的辊位置坐标Bi(Xii,Hi);根据所述辊位置坐标Bj(xjj,hj),控制所述激光雕刻头的运动位置、所述凹印版辊的旋转角度以及激光雕刻深度三个参数,并对所述凹印版辊进行激光雕刻。在本发明中,通过对在所述凹印版辊上的雕刻深度进行矫正,有效防止凹印版辊在雕刻过程中,雕刻深度过小,导致印刷时含墨量过少,从而引起的印刷效果不佳的问题。

技术领域

本发明涉及凹印版辊技术领域,特别涉及一种凹印版辊的雕刻方法。

背景技术

凹印版辊的印刷技术是目前经常使用的一种印刷技术,在我国整个印刷行业中占有重要份额。特别是在印刷行业的包装领域有着其它印刷方式无法替代的性能、成本优势。使用凹版印刷术制造的印刷产品具有墨层厚实、颜色鲜艳且分布规整、能完美还原原稿效果等优点。

将设计图案雕刻到凹印版辊的圆柱面上,雕刻图案设置有雕刻深度,其雕刻深度为二维平面上的雕刻深度,因凹印版辊为圆柱体的缘故,若按二维平面上设置的雕刻深度,在印刷时,其含墨量会少于预设含墨量,导致印刷出来的图案含墨量过少,而影响印刷效果。

发明内容

有鉴于现有技术存在的缺陷,本发明所要解决的技术问题是,提供一种凹印版辊的雕刻方法,旨在解决凹印版辊在雕刻过程中,雕刻深度过小,印刷时含墨量过少,从而导致印刷效果不佳的问题。

为实现上述目的,本发明提供一种凹印版辊的雕刻方法,所述方法包括如下步骤:

步骤S1、获取目标雕刻图像的各个带深度雕刻点的带深度平面坐标Ai(xi,yi,hi);其中,所述i为所述带深度雕刻点的编号,所述i为正整数,以起始雕刻点所对应的第一位置的第一坐标为A1(x1,y1,h1)且越往后的所述带深度雕刻点的编号的数值越大;所述hi为所述带深度雕刻点的雕刻深度;凹印版辊上方设置有激光雕刻头,所述凹印版辊轴线连接有旋转驱动电机,所述激光雕刻头用于沿所述凹印版辊的轴向进行运动以便对所述凹印版辊进行激光雕刻,所述旋转驱动电机用于旋转所述凹印版辊以便激光雕刻;

步骤S2、根据所述带深度平面坐标Ai(xi,yi,hi),获取所述目标雕刻图像的各个所述带深度雕刻点在所述凹印版辊上的辊位置坐标Bi(Xii,Hi);其中,所述凹印版辊的轴长大于所述目标雕刻图像的横向版幅,所述凹印版辊的周长大于所述目标雕刻图像的纵向版幅,以所述起始雕刻点在所述凹印版辊上的第二位置的第二坐标为B1(X11,H1)且越往后的所述带深度雕刻点的编号的数值越大;所述带深度平面坐标Ai(xi,yi,hi)和所述辊位置坐标Bi(Xii,Hi)满足:

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