[发明专利]一种高耐磨抗指纹剂的制备方法

权利要求书

1.一种高耐磨抗指纹剂的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)在催化剂作用下，向含有全氟聚醚硅氧烷的氟醚溶液中加入水解剂，得到端基为硅羟基的全氟聚醚硅烷化合物(A)；

(2)在催化剂作用下，向含有烷氧基硅烷的氟醚溶液中加入水解剂，得到端基为硅羟基的硅烷化合物(B)；

(3)使用有回流冷凝管和恒压漏斗的三颈烧瓶装置，向三颈烧瓶中加入纳米级硅烷和氟醚溶剂，搅拌混合均匀，控温0-30℃；向恒压漏斗中加入端基为硅羟基的全氟聚醚硅烷化合物(A)，缓慢滴加；后向恒压漏斗中加入端基为硅羟基的硅烷化合物(B)，缓慢滴加，获得纳米级多官能团全氟聚醚硅烷化合物。

2.根据权利要求1所述一种高耐磨抗指纹剂的制备方法，其特征在于：所述第(1)步中，全氟聚醚硅氧烷分子量为2000-8000，全氟聚醚主链结构式为下式中的一种或几种表示：

R-(CF₂CF₂O)_m-(CF₂O)_n-R'

RO-(CF₂-CF₂CF₂O)_m-R'

其中m为至少1的整数，n和l各自为至少0的整数，R为CF3、R’为硅氧烷结构，各个重复单元可无规的结合。

3.根据权利要求1所述一种高耐磨抗指纹剂的制备方法，其特征在于：所述第(1)步中，全氟聚醚硅氧烷化合物为以下结构式中的一种或几种：

PFPE-CH₂OCOHN-CH₂-CH₂-CH₂-Si(OCH₃)₃

PFPE-CH₂O-CH₂-CH₂-CH₂-Si-(OCH₃)₃

。

4.根据权利要求1所述一种高耐磨抗指纹剂的制备方法，其特征在于：所述第(2)步中，含有烷氧基的硅烷为甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、正硅酸乙酯、1,2-双三甲氧基硅基乙烷中的一种或多种混合物。

5.根据权利要求1所述一种高耐磨抗指纹剂的制备方法，其特征在于：所述第(3)步中，纳米级硅烷平均粒径为10-200nm，浓度为10-30wt％。

6.根据权利要求1所述一种高耐磨抗指纹剂的制备方法，其特征在于：所述第(3)步中，纳米粒子与端基为硅羟基的全氟聚醚硅烷化合物(A)反应，纳米粒子与端基为硅羟基的全氟聚醚硅烷重量比为1:2-1:20，控温20-30℃，反应8-12h。

7.根据权利要求1所述一种高耐磨抗指纹剂的制备方法，其特征在于：所述第(3)步中，纳米粒子与端基为硅羟基的硅烷化合物(B)反应，纳米粒子与端基为硅羟基的硅烷化合物重量比为1:2-1:20，控温20-30℃，反应8-12h。

8.根据权利要求1所述一种高耐磨抗指纹剂的制备方法，其特征在于：所述氟醚溶液为3M的7100、7200、7300，苏威的HT70、HT110、HT130中的一种或几种。