[发明专利]一种MWDM滤光片薄膜制作方法

说明书

本发明提供一种MWDM滤光片薄膜制作方法，包括下列步骤：对玻璃基板进行清洗，在玻璃基板上加上100～300V的负偏压，通过平面磁控溅射沉积技术对玻璃基板进行镀膜，在溅射过程中，靶为平面阴极，平行在平面阴极上面的磁场将自由电子限制在阴极靶材表面，离子源将氩气电离为氩离子，进而轰击靶表面，溅射出来的材料再与氧气结合形成氧化物，生成的氧化物再快速沉积在玻璃基板上形成光学薄膜，光学薄膜的膜系为TA2O5材料及SIO2材料相交替叠加，同时利用计算机进行光量值控制，再对玻璃基板的非镀膜面进行研磨抛光和切割。与现有技术相比，本发明能匹配出满足光谱特性的MWDM滤光片，明显改善MWDM滤光片产品单炉的成功率，由原来的20％的成功率提升到60％，实现批量生产。

技术领域

本发明涉及光学薄膜技术领域，具体而言，涉及一种MWDM滤光片薄膜制作方法。

背景技术

滤光片是用来选取所需辐射波段的光学器件。滤光片的一个共性，就是没有任何滤光片能让天体的成像变得更明亮，因为所有的滤光片都会吸收某些波长，从而使物体变得更暗。

在如今光通讯行业高速发展的带动下，滤光片的需求量也大幅提升。5G对前传网提出高可靠、高性能、低成本、易部署的更高需求，这就需要一个能够快速响应满足市场需求且成本较低的技术方案来实现。5G前传技术中CWDM是发展较早且较为成熟的方案，而运营商对于5G前传的基础需求是需要满足12波WDM，这样基于CWDM基础上提出了MWDM。MWDM主要是在中国5G前传网络环境下提出的。CWDM有18个波长(1271～1611nm)，但由于考虑到1270～1470nm波段的衰减比较大，以及基于成本的考虑，使用较多的只有其中的6个波长(1271nm、1291nm、1311nm、1351nm、1371nm)。MWDM就是在CWDM 6波的基础上，左右偏移3.5nm扩展为12波(1267.5、1274.5、1287.5、1294.5、1307.5、1314.5、1327.5、1334.5、1347.5、1354.5、1367.5、1374.5nm)。将CWDM的20nm的波长间隔压缩为7nm，采用TEC(ThermalElectronic Cooler,半导体制冷器)温控技术实现1波扩为2个波。这样就实现了容量提升的同时可以进一步节省光纤，从而节省基建成本。

上述MWDM滤光片的缺陷是：由于该膜层比以往膜层厚10um，现阶段镀膜机台与膜系无法匹配出满足光谱特性的滤光片。在以往进行该膜层成膜时，主要是运用蒸发式成膜工艺，由于成膜时间长，在这种工艺下，已无法提供足够的蒸发膜料，如TA2O5及SIO2会重复使用前面已使用过的位置，从而导致蒸发膜料产生吸收，材料折射率发生变化，进而会让该层膜层厚度与实际设计值产生较大的差异，随着每一层膜层差异的叠加，最终形成的MWDM滤光片薄膜无法满足光谱特性要求。

发明内容

为了克服现有技术的不足，本发明能匹配出满足光谱特性的MWDM滤光片，明显改善MWDM滤光片产品单炉的成功率，由原来的20％的成功率提升到60％，实现批量生产。

一种MWDM滤光片薄膜制作方法，具体技术方案如下所示：

一种MWDM滤光片薄膜制作方法，包括下列步骤：

材质选择和清洗：选择K9材质的玻璃基板通过全自动化超声波清洗线进行超声波清洗，通过80KHZ的高频超声波将所述玻璃基板上的麻点进行清理，同时通过除油清洗剂WIN18的上下抛动洗涤将指纹油脂清洗干净；

装载：将清洗洁净的所述玻璃基板存放至铝制大圆片夹具上，待镀膜机台准备完毕后，将所述铝制大圆片夹具和所述玻璃基板逐一装载进所述镀膜机台的腔体内；