[发明专利]一种266纳米高功率激光增透膜及其制备方法

权利要求书

1.一种266纳米高功率激光增透膜，其特征在于：膜层结构为：A/cL/bH/aL/SUB/aL/bH/cL/A，其中，SUB代表玻璃基底；A代表空气；H代表高折射率膜层；L代表低折射率膜层；a﹑b﹑c分别为各膜层的四分之一参考波长光学厚度的系数理论值，a为1.6±0.2，b为0.53±0.2，c为1.13±0.2。

2.如权利要求1所述的266纳米高功率激光增透膜，其特征在于：高折射率膜层所用材料为HfO₂或AL₂O₃。

3.如权利要求1或2所述的266纳米高功率激光增透膜，其特征在于：低折射率膜层所用材料为SIO₂或MgF₂。

4.如权利要求1或2所述的266纳米高功率激光增透膜，其特征在于：基底所用材料为熔石英、蓝宝石或氟化钙。

5.如权利要求1或2所述的266纳米高功率激光增透膜，其特征在于：膜层的物理厚度为：aL为75.44±7.5nm，bH为20±2nm，cL为52.36±5.2nm。

6.权利要求1-5任意一项所述的266纳米高功率激光增透膜的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：

(1)超声波清洗：超声清洗去除玻璃基底表面附着的微观颗粒；

(2)薄膜制备：使用电子束或电阻热蒸发方法在玻璃基底上蒸镀，同时在真空室导入高纯氧气，使得沉积材料在高真空状态下能得到充分氧化，其中高纯氧气的纯度≥99.99％。

7.如权利要求6所述的制备方法，其特征在于：步骤(2)中，成膜前，先将基片温度在250-350℃，恒温40min以上，成膜过程中将基片温度维持在250-350℃。

8.如权利要求6或7所述的制备方法，其特征在于：步骤(2)中，镀AL₂O₃或HFO₂时，高纯氧气的充气量为10-180sccm，AL₂O₃或HFO₂的蒸发速率为0.15-0.5nm/s。

9.如权利要求6或7所述的制备方法，其特征在于：步骤(2)中，镀MgF₂时，不导入高纯氧气，MgF₂的蒸发速率为0.3-1.5nm/s；蒸镀SIO₂时，高纯氧气的充气量为10-150sccm，SIO₂的蒸发速率为0.3-1.5nm/s。

10.如权利要求6或7所述的制备方法，其特征在于：步骤(2)中，蒸镀时，在蒸发源与玻璃基底之间加隔离挡板，隔离挡板位于玻璃基底下方、位于蒸发源上方，阻挡并吸附无效的蒸发材料。