[发明专利]发声单体在审
申请号: | 202110142880.6 | 申请日: | 2021-02-02 |
公开(公告)号: | CN112770233A | 公开(公告)日: | 2021-05-07 |
发明(设计)人: | 王苗苗;李波波;郭晓冬 | 申请(专利权)人: | 歌尔股份有限公司 |
主分类号: | H04R9/02 | 分类号: | H04R9/02;H04R9/06;H04R7/04;H04R31/00 |
代理公司: | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 | 代理人: | 梁馨怡 |
地址: | 261031 山东省潍*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 发声 单体 | ||
1.一种发声单体,其特征在于,所述发声单体包括具有收容空间的壳体、以及设于所述收容空间的导磁振膜和两个磁路系统,两个所述磁路系统相对间隔设置,所述磁路系统包括贴设在所述壳体上的磁钢和绕所述磁钢设置的线圈;所述导磁振膜设于两个所述磁路系统之间并分别与两个所述磁路系统间隔设置,所述导磁振膜用于在所述磁路系统产生的交变电磁场的作用下振动发声,所述磁钢、所述线圈和所述导磁振膜同轴设置。
2.如权利要求1所述的发声单体,其特征在于,两个所述磁路系统的磁钢的充磁方向相同,两个所述磁路系统的线圈的电流方向相反。
3.如权利要求1所述的发声单体,其特征在于,所述壳体包括配合形成所述收容空间的第一磁轭和第二磁轭,所述导磁振膜设置在所述第一磁轭和所述第二磁轭之间,两个所述磁路系统分别设置在所述第一磁轭和所述导磁振膜围绕的空间内、以及所述第二磁轭和所述导磁振膜围绕的空间内。
4.如权利要求3所述的发声单体,其特征在于,所述第一磁轭包括顶壁和自所述顶壁延伸的第一侧壁,所述第二磁轭包括底壁和自所述底壁延伸的第二侧壁;两个所述磁路系统中一个所述磁路系统的磁钢设于所述顶壁上并与所述第一侧壁之间形成第一间隙,另一个所述磁路系统的磁钢设于所述底壁上并与所述第二侧壁之间形成第二间隙,两个所述线圈分别设置于所述第一间隙和所述第二间隙内。
5.如权利要求4所述的发声单体,其特征在于,所述第一侧壁和所述第二侧壁分别从所述导磁振膜的相对两侧固定所述导磁振膜。
6.如权利要求4所述的发声单体,其特征在于,所述第一侧壁和/或所述第二侧壁上开设有连通所述收容空间的出声孔。
7.如权利要求4所述的发声单体,其特征在于,所述磁钢开设有开口朝向所述导磁振膜的气流通道,所述底壁和所述顶壁上分别开设有连通所述气流通道的出声孔。
8.如权利要求7所述的发声单体,其特征在于,所述磁路系统还包括设于所述气流通道内的传音导磁体,所述传音导磁体内分布有若干孔隙结构。
9.如权利要求8所述的发声单体,其特征在于,所述传音导磁体为泡沫铁镍。
10.如权利要求1至9中任一项所述的发声单体,其特征在于,所述导磁振膜为平面导磁振膜。
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