[发明专利]一种柔性显示面板及其制备方法在审
申请号: | 202110145464.1 | 申请日: | 2021-02-02 |
公开(公告)号: | CN112909061A | 公开(公告)日: | 2021-06-04 |
发明(设计)人: | 彭久红;肖世艳 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/56 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 王红红 |
地址: | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 柔性 显示 面板 及其 制备 方法 | ||
1.一种柔性显示面板,包括:
基层;
像素定义层,设置于所述基层上,其中所述像素定义层具有多个分别用于限定子像素的发光区域的开口区、以及多个分别位于相邻两个所述开口区之间的间隔区;
发光层,设置于所述开口区中;以及
阴极层,设置于所述发光层上;
其特征在于:所述间隔区呈倒梯形,位于所述开口区中的所述发光层和所述阴极层与相对应的所述间隔区断开形成第一间隙。
2.如权利要求1所述的柔性显示面板,其特征在于,所述柔性显示面板还包括有:
阳极层,设置于所述基层上,所述阳极层由多个相互独立的阳极构成,每一阳极均暴露于相对应的所述开口区中;
其中,所述发光层和所述阴极层依次设置于所述开口区中的所述阳极上。
3.如权利要求2所述的柔性显示面板,其特征在于,在所述阳极上还设置有一绝缘层,所述绝缘层围绕所述开口区以限定所述开口区的区域;其中,所述发光层设置于所述阳极上且所述发光层的一部分位于所述绝缘层上。
4.如权利要求1所述的柔性显示面板,其特征在于,所述发光层和所述阴极层还依次层叠形成于所述像素定义层的所述间隔区上;
其中,形成于所述间隔区上的所述发光层和所述阴极层与形成于所述开口区中的所述发光层和所述阴极层形成断层式结构。
5.如权利要求1所述的柔性显示面板,其特征在于,所述柔性显示面板还包括有:
隔垫物层,设置于所述像素定义层的所述间隔区上,所述隔垫物层由多个隔垫物构成,其中所述隔垫物呈倒梯形。
6.如权利要求5所述的柔性显示面板,其特征在于,所述发光层和所述阴极层还依次形成于所述像素定义层的所述间隔区上;
其中,形成于所述间隔区上的所述发光层和所述阴极层与所述隔垫物断开形成第二间隙。
7.如权利要求1所述的柔性显示面板,其特征在于,所述间隔区的侧壁与所述基层之间的夹角大于70°且小于90°。
8.如权利要求2所述的柔性显示面板,其特征在于,所述基层包括:
衬底层;
TFT基板,设置于所述衬底层上;以及
平坦层,设置于所述TFT基板的远离所述衬底层的一侧;
其中,所述阳极层形成于所述平坦层的远离所述TFT基板的一侧;所述像素定义层形成于所述平坦层的远离所述TFT基板的一侧且覆盖一部分的所述阳极层。
9.一种柔性显示面板的制备方法,用来制备如权利要求1至8中任意一项所述的柔性显示面板,其特征在于,所述柔性显示面板的制备方法包括以下步骤:
提供一基层;
通过在所述基层上光阻涂布、曝光、显影、移除工艺制作像素定义层于所述基层上;其中,所述像素定义层具有多个分别用于限定子像素的发光区域的开口区、以及多个分别位于相邻两个所述开口区之间的间隔区,所述间隔区呈倒梯形;
在所述像素定义层的所述开口区和所述间隔区上依次制作发光层和阴极层,其中所述发光层和所述阴极层与相对应的所述间隔区断开形成第一间隙。
10.如权利要求9所述的柔性显示面板的制备方法,其特征在于,形成于所述间隔区上的所述发光层和所述阴极层与形成于所述开口区中的所述发光层和所述阴极层形成断层式结构。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的