[发明专利]光学装置、物品制造方法以及光学部件制造方法

说明书

本公开涉及光学装置、物品制造方法以及光学部件制造方法。曝光装置构成为具备：光源，射出具有连续的波长域的光；以及至少1个光学元件，设置有包含光触媒膜的光学膜，从所述光源射出的光经由所述至少1个光学元件入射到被照射面。从所述光源射出并经由所述至少1个光学元件入射到所述被照射面的光的波长域的下限波长由所述光触媒膜的光吸收特性决定。

技术领域

本发明涉及光学装置、物品制造方法以及光学部件制造方法。

背景技术

在具备透镜、反射镜等光学元件的曝光装置中，由于伴随紫外光的照射在光学元件的表面堆积污染物质而光学性能(透射率、反射率)降低。在专利文献1中，记载有在石英玻璃基板上设置有由光触媒物质构成的厚度5以上50以下的光触媒膜的光学部件。在专利文献2中，记载有多层反射防止膜，交替层叠低折射率层以及高折射率层，最上层由低折射率层构成，至少最上层的正下的高折射率层由具有光触媒活性的金属氧化物层构成。在专利文献3中，记载有具有最表面的低折射率透明膜、和设置于该低折射率透明膜的下层的高折射率透明膜的反射防止膜。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2005-345812号公报

专利文献2：日本特开2000-329904号公报

专利文献3：日本特开2008-003390号公报

发明内容

在曝光装置等光学装置中，在光学元件的表面设置包含光触媒膜的光学膜时，光被该光触媒膜吸收，入射到被照射面的光的强度可能降低。

本发明的目的在于提供一种适合于解决由于到达被照射面的光的强度降低而产生的问题的技术。

本发明的第1侧面涉及光学装置，所述光学装置具备：光源，射出具有连续的波长域的光；以及至少1个光学元件，设置有包含光触媒膜的光学膜，从所述光源射出的光经由所述至少1个光学元件入射到被照射面，其中，从所述光源射出并经由所述至少1个光学元件入射到所述被照射面的光的波长域的下限波长由所述光触媒膜的光吸收特性决定。

本发明的第2侧面涉及物品制造方法，所述物品制造方法具有：曝光工序，使用所述第1侧面所涉及的光学装置，对基板上的感光材料进行曝光；以及显影工序，使所述感光材料显影，所述感光材料在所述下限波长下具有感光性，根据经历了所述显影工序的所述基板得到物品。

本发明的第3侧面涉及制造光学部件的光学部件制造方法，所述光学部件制造方法包括在光学元件上形成包含光触媒膜的光学膜的处理工序，所述处理工序包括以使所述光触媒膜的光吸收波长成为目标光吸收波长的方式形成所述光触媒膜的成膜工序。

本发明提供适合于解决由于到达被照射面的光的强度降低而产生的问题的技术。

附图说明

图1是示出第1至第4实施方式的光学装置的结构的图。

图2是例示光源部的汞灯的发光波长的图。

图3是例示1个面量的反射防止膜的分光透射率的图。

图4是例示40个面量的反射防止膜的分光透射率的图。

图5是示出第1至第4反射防止膜(光学膜)或者光学部件的结构的图。

图6是将作为光触媒使用HfO₂膜的情况的曝光装置中的曝光光的分光特性标准化而成的图。

图7是将作为光触媒使用Ta₂O₅膜的情况的曝光装置中的曝光光的分光特性标准化而成的图。

图8是将作为光触媒使用TiO₂膜的情况的曝光装置中的曝光光的分光特性标准化而成的图。