[发明专利]一种提高GaAs光电阴极稳定性的激活方法有效

专利信息
申请号: 202110149423.X 申请日: 2021-02-03
公开(公告)号: CN112885684B 公开(公告)日: 2022-09-27
发明(设计)人: 张益军;宋淳;荣敏敏;李诗曼;张锴珉;舒昭鑫;李姗;詹晶晶;钱芸生 申请(专利权)人: 南京理工大学
主分类号: H01J29/04 分类号: H01J29/04;H01J31/50;H01J37/02;H01J37/26;H01L31/0224;H01L31/18
代理公司: 南京理工大学专利中心 32203 代理人: 岑丹
地址: 210094 江*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 提高 gaas 光电 阴极 稳定性 激活 方法
【说明书】:

发明公开了一种提高GaAs光电阴极稳定性的激活方法,包括两次Cs/Li/NF3激活,分别在两次高温净化之后各进行一次激活。本发明的操作步骤少,Cs源一直保持开启状态,Li源的开启和关闭只需判定光电流的大小,NF3的开启和关闭只需控制阀门开关,可操作性强,且光电阴极稳定性提升显著。

技术领域

本发明属于GaAs光电阴极激活技术,具体为一种提高GaAs光电阴极稳定性的激活方法。

背景技术

GaAs光电阴极是现代微光夜视器件的重要组成部分,在微光像增强器、透射电子显微镜、新型太阳能电池等领域具有广泛应用。在目前光电阴极应用中,GaAs光电阴极的稳定性较低是一技术难题,阻碍了GaAs光电阴极的实用化发展。因此,如何制备出高稳定性的GaAs光电阴极就变得至关重要。超高真空环境下的激活工艺很大程度上决定了GaAs光电阴极的性能好坏,激活过程中激活源的种类、激活源交替顺序,以及激活源气体流量比等因素都对光电阴极的稳定性产生很大影响。

在目前的GaAs光电阴极激活工艺中,最为常用的是Cs/O高低温两步激活工艺。在超高真空环境下,首先在化学清洗和高温净化后的GaAs光电阴极表面进行第一次Cs/O交替激活,然后在低温净化的GaAs光电阴极表面进行第二次Cs/O交替激活。激活时采用白光光源照射阴极表面,Cs/O激活使GaAs光电阴极表面势垒降低,从而得到负电子亲和势光电阴极。但采用这种高低温两步激活方法得到的GaAs光电阴极稳定性较差,第二次激活相对第一次激活在稳定性方面的提升较小。

发明内容

本发明的目的在于提供一种提高GaAs光电阴极稳定性的激活方法。

实现本发明目的的技术解决方案为:一种提高GaAs光电阴极稳定性的激活方法,具体步骤如下:

步骤1、对GaAs光电阴极进行化学清洗和高温净化;

步骤2、开启光源并进行第一次激活;开启Cs源和Li源,光电流开始上升;

步骤3、当光电流达到第一个峰值时关闭Li源,光电流转为下降,当光电流下降至第一个峰值电流的40%~60%时开启NF3进气阀门,光电流再次上升;

步骤4、当光电流上升至第一个峰值电流的3倍时开启Li源,当光电流下降至前一峰值电流的60%~80%时关闭Li源;当光电流上升至第一个峰值电流的6倍时开启Li源,当光电流下降至前一峰值电流的60%~80%时关闭Li源;

步骤5、当光电流峰值不再增大时关闭NF3进气阀门,关闭Cs源,关闭光源,结束第一次激活;

步骤6、对GaAs光电阴极进行第二次高温净化;

步骤7、开启光源并进行第二次激活,开启Cs源和Li源,光电流开始上升,当光电流达到第一个峰值时关闭Li源,光电流转为下降,当光电流下降至第一个峰值电流的40%~60%时开启NF3进气阀门,光电流再次上升;

步骤8、当光电流上升至第一个峰值电流的3倍时开启Li源,Li源开启2~5min后关闭,当光电流上升至第一个峰值电流的6倍时开启Li源,当光电流下降至前一峰值电流的60%~80%时关闭Li源,当光电流增加速率变缓直至达到峰值时开启Li源,当光电流下降至前一峰值电流的60%~80%时关闭Li源;

步骤9、当光电流峰值不再增大时关闭NF3进气阀门,关闭Cs源,关闭光源,结束激活。

优选地,步骤1中的化学清洗方法具体为:

对GaAs光电阴极表面进行紫外臭氧清洗;

去除GaAs光电阴极表面的油脂;

将GaAs光电阴极放入HF溶液中刻蚀;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京理工大学,未经南京理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110149423.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top