[发明专利]一种膜分离沉淀池

权利要求书

1.一种膜分离沉淀池，其结构包括存膜槽（1）、溢流槽（2）、支撑柱（3）、载台（4）、排泥管（5）、沉淀池（6），所述存膜槽（1）下端与沉淀池（6）活动配合，所述沉淀池（6）底部前端与排泥管（5）法兰连接，所述排泥管（5）与载台（4）表面间隙配合，所述载台（4）表面与支撑柱（3）嵌固连接，所述支撑柱（3）与存膜槽（1）下端焊接连接，所述存膜槽（1）右侧与溢流槽（2）嵌套连接，其特征在于：

所述存膜槽（1）包括槽内腔（11）、排污口（12）、电动机（13）、折齿板（14）、阻断板（15），所述槽内腔（11）中心与阻断板（15）卡合连接，所述阻断板（15）表面与折齿板（14）嵌固配合，所述折齿板（14）外端与电动机（13）间隙配合，所述电动机（13）与槽内腔（11）内部活动配合，所述槽内腔（11）侧端与排污口（12）间隙配合。

2.根据权利要求1所述的一种膜分离沉淀池，其特征在于：所述槽内腔（11）包括防溢罩（111）、待入腔（112）、沉淀腔（113）、输送螺杆（114），所述防溢罩（111）上端与沉淀腔（113）活动配合，所述沉淀腔（113）下端与待入腔（112）活动配合，所述待入腔（112）与防溢罩（111）整体间隙配合，所述防溢罩（111）下端与输送螺杆（114）整体间隙配合。

3.根据权利要求2所述的一种膜分离沉淀池，其特征在于：所述防溢罩（111）包括摆杆（a1）、螺旋槽（a2）、固定板（a3）、吸收盘（a4）、流通腔（a5），所述摆杆（a1）与固定板（a3）表面铰接连接，所述固定板（a3）内侧与流通腔（a5）活动配合，所述流通腔（a5）外端两侧与螺旋槽（a2）间隙配合，所述螺旋槽（a2）顶部与吸收盘（a4）螺旋连接。

4.根据权利要求3所述的一种膜分离沉淀池，其特征在于：所述摆杆（a1）包括杆体（a11）、限位环（a12）、配重球（a13）、滑槽（a14）、平衡块（a15），所述杆体（a11）末端与限位环（a12）活动配合，所述限位环（a12）与配重球（a13）整体间隙配合，所述配重球（a13）与滑槽（a14）内部滑动配合，所述滑槽（a14）与杆体（a11）表面嵌固连接，所述杆体（a11）顶端与平衡块（a15）嵌固连接。

5.根据权利要求3所述的一种膜分离沉淀池，其特征在于：所述吸收盘（a4）包括转盘（a41）、套筒（a42）、辅助盘（a43）、转轴（a44），所述转盘（a41）下端与转轴（a44）活动配合，所述转轴（a44）与套筒（a42）内部嵌套连接，所述套筒（a42）与辅助盘（a43）上端间隙配合，所述辅助盘（a43）与转轴（a44）活动配合。

6.根据权利要求5所述的一种膜分离沉淀池，其特征在于：所述转盘（a41）包括分流座（b1）、固定环（b2）、自吸孔（b3）、稳定座（b4），所述分流座（b1）底部与稳定座（b4）嵌固连接，所述稳定座（b4）与固定环（b2）下表面间隙配合，所述固定环（b2）表面与自吸孔（b3）嵌固连接。

7.根据权利要求6所述的一种膜分离沉淀池，其特征在于：所述分流座（b1）包括固定盘（b11）、螺纹柱（b12）、导流腔（b13），所述固定盘（b11）下端与导流腔（b13）活动配合，所述导流腔（b13）与螺纹柱（b12）内部间隙配合，所述螺纹柱（b12）与固定盘（b11）下端焊接连接。