[发明专利]一种射频/光学复合目标模拟装置及方法有效
| 申请号： | 202110154374.9 | 申请日： | 2021-02-04 |
| 公开（公告）号： | CN112904583B | 公开（公告）日： | 2022-10-18 |
| 发明（设计）人： | 杨扬;李艳红;田义;王超峰;王丙乾;王帅豪;赵吕懿;李奇;柴娟芳;张励 | 申请（专利权）人： | 上海机电工程研究所;上海神箭机电工程有限责任公司 |
| 主分类号： | G02B27/10 | 分类号： | G02B27/10 |
| 代理公司： | 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 | 代理人： | 胡晶 |
| 地址： | 201100 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 射频 光学 复合 目标 模拟 装置 方法 | ||
1.一种射频/光学复合目标模拟装置，其特征在于，包括射频辐射信号源、射频调节机构、反射面、光学辐射信号源、中继光学系统、透射频反光学共形系统以及支撑结构，其中：
射频辐射信号源出射的射频信号经过中继光学系统（5）、反射面（3）和透射频反光学共形系统（6）透射，准直为平行光束出射；
光学辐射信号源出射的光学信号经过透射频反光学共形系统（6）反射后准直为准平面波输出；
射频调节机构对射频辐射信号源进行运动调节；
支撑结构用于对反射面和透射频反光学共形系统支撑；
透射频反光学共形系统为透射频反光学结构，石英玻璃表面镀光学反射介质膜，透射频反光学共形系统与反射面结构配合设计，反射面为离轴抛物面结构，透射频反光学共形系统反射面前表面为抛物面或双曲面，两个面型焦点位置不一致。
2.根据权利要求1所述的射频/光学复合目标模拟装置，其特征在于，光学辐射信号源出射的光学信号包括红外光、紫外光、可见光或者激光。
3.根据权利要求1所述的射频/光学复合目标模拟装置，其特征在于，光学辐射信号源包括点信号源或者图像信号源。
4.根据权利要求1所述的射频/光学复合目标模拟装置，其特征在于，射频辐射信号源包括波纹喇叭天线或者三元组阵列。
5.根据权利要求1所述的射频/光学复合目标模拟装置，其特征在于，射频调节机构采用二维平移台。
6.根据权利要求1所述的射频/光学复合目标模拟装置，其特征在于，反射面和透射频反光学共形系统为分别针对射频辐射信号和光学辐射信号准直的设计和优化，将射频辐射信号源和光学辐射信号源结构独立。
7.根据权利要求1所述的射频/光学复合目标模拟装置，其特征在于，射频调节机构控制射频相位中心，实现电轴高精度输出。
8.根据权利要求1所述的射频/光学复合目标模拟装置，其特征在于，射频辐射信号和光学辐射信号采用共轴共口径复合输出或者非共口径复合输出。
9.根据权利要求1所述的射频/光学复合目标模拟装置，其特征在于，支撑结构的表面贴吸波材料。
10.一种基于权利要求1-9任一项所述的射频/光学复合目标模拟装置的方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤S1：由射频辐射信号源产生射频辐射信号，经过中继光学系统、反射面（3），再经过透射频反光学共形系统（6）的透射准直为平行光束出射；
步骤S2：光学辐射信号源产生光学辐射信号，经过透射频反光学共形系统（6）的反射准直形成近似平面波出射；
步骤S3：当光学光轴与射频电轴重合时，射频和光学辐射信号共轴共口径输出，当光学光轴与射频电轴不重合时，射频和光学辐射信号非共轴分口径输出。
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