[发明专利]紧缩场天线测量系统、构建其的方法、装置及电子设备

权利要求书

1.一种紧缩场天线测量系统，其特征在于，包括馈源、主反射镜、第一赋形副反射镜和第二赋形副反射镜，其中：

所述第一赋形副反射镜用于将所述馈源发出的电磁波反射至所述第二赋形副反射镜；

所述第二赋形副反射镜用于将所述第一赋形副反射镜反射的电磁波反射至所述主反射镜；

所述主反射镜用于将所述第二赋形副反射镜反射的电磁波反射为平面电磁波，所述平面电磁波形成系统出射场；

且，所述第一赋形副反射镜和/或所述第二赋形副反射镜的镜面为基于B样条获得的曲面镜面；

所述馈源相位中心、所述第一赋形副反射镜、所述第二赋形副反射镜以及所述主反射镜的中心反射点位置满足以下函数关系式：

2f＝r₁+r₂+r₃+r₄

x₁＝0

式中，f表示所述主反射镜的焦距，r₁表示所述馈源相位中心与所述第一赋形副反射镜中心反射点之间的距离，r₂表示所述第一赋形副反射镜中心反射点与所述第二赋形副反射镜中心反射点之间的距离，r₃表示所述第二赋形副反射镜中心反射点与所述主反射镜中心反射点之间的距离，r₄表示所述主反射镜中心反射点与所述系统出射场口径中心之间的距离，A表示所述主反射镜的焦点的z轴坐标值，与所述主反射镜的焦距之间的比值，z₃表示所述主反射镜中心反射点的z轴坐标值，x₃表示所述主反射镜中心反射点的x轴坐标值，x₁表示所述第一赋形副反射镜中心反射点的x轴坐标值。

2.根据权利要求1所述的紧缩场天线测量系统，其特征在于，所述第一赋形副反射镜与所述第二赋形副反射镜之间的电磁波传播光路为格里高利反射形式传播光路，所述第二赋形副反射镜与所述主反射镜之间的电磁波传播光路为卡塞格伦反射形式传播光路。

3.一种构建如权利要求1所述的紧缩场天线测量系统的方法，其特征在于，包括：

根据馈源相位中心、第一赋形副反射镜、第二赋形副反射镜以及主反射镜的中心反射点位置，确定所述第一赋形副反射镜中心反射点的法向量，以及计算所述第二赋形副反射镜中心反射点的法向量；所述馈源相位中心、所述第一赋形副反射镜、所述第二赋形副反射镜以及所述主反射镜的中心反射点位置满足以下函数关系式：

2f＝r₁+r₂+r₃+r₄

x₁＝0

式中，f表示所述主反射镜的焦距，r₁表示所述馈源相位中心与所述第一赋形副反射镜中心反射点之间的距离，r₂表示所述第一赋形副反射镜中心反射点与所述第二赋形副反射镜中心反射点之间的距离，r₃表示所述第二赋形副反射镜中心反射点与所述主反射镜中心反射点之间的距离，r₄表示所述主反射镜中心反射点与所述系统出射场口径中心之间的距离，A表示所述主反射镜的焦点的z轴坐标值，与所述主反射镜的焦距之间的比值，z₃表示所述主反射镜中心反射点的z轴坐标值，x₃表示所述主反射镜中心反射点的x轴坐标值，x₁表示所述第一赋形副反射镜中心反射点的x轴坐标值；

基于预设的B样条曲面构建方法、所述第一赋形副反射镜中心反射点的法向量及所述第二赋形副反射镜中心反射点的法向量，确定所述第一赋形副反射镜除中心反射点之外的其他反射点的参数，及所述第二赋形副反射镜除中心反射点之外的其他反射点的参数，所述反射点的数量为预设数量，所述反射点的参数包括反射点的位置和法向量；

基于所述第一赋形副反射镜的所有反射点的参数，确定所述第一赋形副反射镜的曲面参数，以及基于所述第二赋形副反射镜所有反射点的参数，确定所述第二赋形副反射镜的曲面参数。