[发明专利]静电喷射喷头阵列的电场分布控制装置、方法、设备及计算机存储介质

权利要求书

1.静电喷射喷头阵列的电场分布控制装置，其特征是包括：

设置于移动平台及平台上的喷射基底，与所述喷射基底电性连接的高压直流电源，与所述高压直流电源电性连接的静电喷射喷头阵列，与所述静电喷射喷头阵列通过管路连接的液体存储和输送装置，以及与所述基底和静电喷射喷头阵列电性连接的调节环组件；

所述调节环组件包括与所述高压直流电源共地的调节环外加高压电源，以及与所述调节环外加高压电源的高压端相连的电场分布调节环；所述电场分布调节环上设有用于自由调节其相对于喷头开口处高度的高度调节装置；

所述电场分布调节环由多节链条组成，每节链条在环平面内自由转动；

通过调节各节环的转动角度改变调节环相对于各个喷头的位置，从而调节各个喷头所喷出的射流的角度和其液体弥散的程度。

2.根据权利要求1所述的静电喷射喷头阵列的电场分布控制装置，其特征在于：所述高压直流电源的接地端与移动平台及平台上的喷射基底相连；所述高压直流电源的高压端与静电喷射喷头阵列中的每个喷头相连，同时液体存储和输送装置给静电喷射喷头阵列提供静电喷射用的液体；所述电场分布调节环围绕静电喷射喷头阵列的各个喷头放置。

3.静电喷射喷头阵列的电场分布控制方法，基于权利要求1至2中任一项所述的静电喷射喷头阵列的电场分布控制装置，其特征是包括至少三种模式：

模式一、调节电场分布调节金属环上的外加高压，以改变喷头喷口附近的电场分布；

模式二、调节电场分布调节金属环的高度，以改变电场分布；

模式三、调节电场分布调节金属环的形状和相对于各个喷头的相对位置，以改变电场分布；

其中，三个模式相互补充，可单个使用、三者同时使用或两两组合使用。

4.静电喷射喷头阵列的电场分布控制设备，其特征在于，所述设备包括：

处理器，存储有计算机程序指令的存储器，以及如权利要求1-2任意一项所述的静电喷射喷头阵列的电场分布控制装置；所述处理器读取并执行所述计算机程序指令，以实现如权利要求3所述的静电喷射喷头阵列的电场分布控制方法。

5.一种计算机可读存储介质，其特征在于，所述计算机可读存储介质上存储有计算机程序指令，所述计算机程序指令被处理器执行时实现如权利要求3所述的静电喷射喷头阵列的电场分布控制方法。