[发明专利]一种显示面板及其制备方法

权利要求书

1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括：

在衬底层的一侧依次设置第一隔离层和第二隔离层；

对非显示区内的所述第二隔离层和所述第一隔离层进行第一次刻蚀；

第一次刻蚀结束后，对所述非显示区内的所述第二隔离层和所述第一隔离层进行第二次刻蚀，形成隔断槽，得到第一基板，其中，在所述隔断槽的侧壁上，所述第二隔离层的端面超出所述第一隔离层的端面，所述第一隔离层的材料与所述第二隔离层的材料在相同刻蚀条件下的刻蚀速率不同；

第二次刻蚀结束后，在所述第一基板远离所述衬底层的一侧设置发光层，得到第二基板；

对所述第二基板进行封装，得到第三基板；

对所述第三基板的所述非显示区内设置开口，形成开口子区域，所述隔断槽围绕所述开口子区域，得到显示面板。

2.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述第一次刻蚀包括干法刻蚀；和/或，

所述第二次刻蚀包括湿法刻蚀。

3.一种显示面板，其特征在于，应用如权利要求1-2中任一项所述的显示面板的制备方法制备得到，所述显示面板包括：显示区和非显示区；

所述非显示区包括开口子区域和至少一个隔断槽，所述隔断槽围绕所述开口子区域；

所述非显示区包括衬底层和依次设置在所述衬底层一侧的第一隔离层、第二隔离层和发光层；

在垂直于所述衬底层的方向上，所述非显示区内的所述第一隔离层和所述第二隔离层均被所述隔断槽截断；

在所述隔断槽的侧壁上，所述第二隔离层的端面超出所述第一隔离层的端面，以使所述发光层在所述隔断槽的侧壁上断开。

4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述非显示区还包括缓冲层，所述缓冲层设置在所述衬底层与所述第一隔离层之间；

所述缓冲层包括第一缓冲材料层和第二缓冲材料层，所述第一缓冲材料层设置在所述第二缓冲材料层与所述第一隔离层之间；

在垂直于所述衬底层的方向上，所述第一缓冲材料层被所述隔断槽截断；

在所述隔断槽的侧壁上，所述第二隔离层的端面超出所述第一缓冲材料层的端面。

5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述非显示区还包括半导体层，所述半导体层设置在所述缓冲层与所述第一隔离层之间；

在垂直于所述衬底层的方向上，所述半导体层被所述隔断槽截断；

在所述隔断槽的侧壁上，所述半导体层的端面超出所述第一隔离层的端面。

6.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述非显示区还包括绝缘层，所述绝缘层设置在所述第二隔离层与所述发光层之间；

所述绝缘层包括第一绝缘材料层和第二绝缘材料层，所述第一绝缘材料层设置在所述第二绝缘材料层与所述发光层之间；

在垂直于所述衬底层的方向上，所述第一绝缘材料层和所述第二绝缘材料层均被所述隔断槽截断；

在所述隔断槽的侧壁上，所述第二绝缘材料层的端面超出所述第一绝缘材料层的端面。

7.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述非显示区还包括绝缘层，所述绝缘层设置在所述第一隔离层与所述半导体层之间；

所述绝缘层包括依次叠加的第一绝缘材料层、第二绝缘材料层和第一绝缘材料层；

在垂直于所述衬底层的方向上，所述第一绝缘材料层和所述第二绝缘材料层均被所述隔断槽截断；

在所述隔断槽的侧壁上，所述第二绝缘材料层的端面超出所述第一绝缘材料层的端面。

8.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述第一隔离层的材料包括氧化硅，所述第二隔离层的材料包括氮化硅。

9.根据权利要求3-8中任一项所述的显示面板，其特征在于，所述隔断槽部分围绕所述开口子区域，或，所述隔断槽全部围绕所述开口子区域。