[发明专利]太阳能电池硅片清洗剂和太阳能电池硅片清洗方法

说明书

本发明公开了一种太阳能电池硅片清洗剂和太阳能电池硅片清洗方法，按照重量百分比，所述太阳能电池硅片清洗剂由0.02‑1.0％的表面活性剂、0.1‑0.8％的螯合剂、0.02‑1.0％的复合酶、0.03‑2.0％盐和余量的水组成。该太阳能电池硅片清洗剂具有无挥发、无刺激性气味、清洗效果强和无氟环保的特点，能有效去除硅片表面吸附的无机颗粒和有机污渍，同时该太阳能电池硅片清洗方法能够使得清洗过的硅片在后续制绒工艺中获得均匀性好、成核密度高、反射率低的优质绒面。

技术领域

本发明涉及太阳能电池硅片，具体地，涉及一种太阳能电池硅片清洗剂和太阳能电池硅片清洗方法。

背景技术

随着常规能源的日趋枯竭以及环境问题的日益突出，以环保和可再生为特质的新能源越来越受到各国政府的高度重视，开发和利用新能源已成为全球关注的焦点。太阳能由于其无污染、可再生、无地域性等优点备受人们青睐。太阳能光伏产业也得以迅速发展。

在太阳能电池制造工艺中，硅片是太阳能光伏发电设备中重要的组件，硅片作为太阳能电池的核心部件，其各项性能参数直接影响太阳能电池的发电效率。太阳能电池的制备过程一般为：前道化学预处理、扩散制备PN结、去边结处理、去磷硅玻璃、镀氮化硅薄膜、丝网印刷与烧结处理，其中前道化学预处理工艺包括硅片清洗工艺和制绒工艺。绒面质量的好坏直接影响太阳能电池的转换效率。

硅片表面的污染物一般来源于切割线与硅片磨损产生的金属颗粒、硅颗粒，切割过程中使用的辅助剂、粘合剂残留，以及搬运过程中灰尘、手指印黏附等污染物。

目前硅片表面预清洗工艺一般采用粗抛。粗抛虽然可去除表面损伤层，在一定程度上去除表面污染物，但粗抛工艺耗碱量大，硅片减薄量很大，碎片率较高。此外，粗抛清洗后制绒所得绒面较大、均匀性较差、成核较低，所得硅片反射率较高，从而导致电池转换效率低。

当然，除了上述粗抛工艺，还存在使用化学试剂清洗的方法，如公开号CN108559639A的专利文献公开了“一种用于黑硅电池片表面处理的清洗液，由氟化合物、醇类助剂、络合剂、分散剂、表面活性剂及去离子水混合制备而成，各原料的质量百分比为：氟化合物8％-25％、醇类助剂5％-30％、络合剂2％-6％、分散剂4％-15％、表面活性剂5％-10％、去离子水14％-76％”；该清洗液使用了氟化合物，氟化合物对环境危害大，不符合当下环保要求；同时该清洗液使用条件较为苛刻，需要在超声的条件下才可对黑硅电池片表面进行有效地清洗。

发明内容

本发明的目的是提供一种太阳能电池硅片清洗剂和太阳能电池硅片清洗方法，该太阳能电池硅片清洗剂具有无挥发、无刺激性气味、清洗效果强和无氟环保的特点，能有效去除硅片表面吸附的无机颗粒和有机污渍，同时该太阳能电池硅片清洗方法能够使得清洗过的硅片在后续制绒工艺中获得均匀性好、成核密度高、反射率低的优质绒面。

为了实现上述目的，本发明提供了一种太阳能电池硅片清洗剂，按照重量百分比，所述太阳能电池硅片清洗剂由0.02-1.0％的表面活性剂、0.1-0.8％的螯合剂、0.02-1.0％的复合酶、0.03-2.0％盐和余量的水组成。

本发明还提供了一种太阳能电池硅片清洗方法，该太阳能电池硅片清洗方法包括：

1)将上述的太阳能电池硅片清洗剂、碱溶液混合以制得太阳能电池硅片清洗液；

2)将太阳能电池硅片浸没于所述太阳能电池硅片清洗液中进行清洗。

在该技术方案中，太阳能电池硅片清洗剂在清洗过程中清洗减重可忽略不计，可以有效解决粗抛时因减重大而易碎片造成的良率不高的问题，具有去污能力强，能够对有机物、手指印等油污具有较好的清洗效果。此外，该太阳能电池硅片清洗剂的成分中不含有对环境造成污染的化合物，从而对环境十分友好。