[发明专利]分区投射装置及其光源单元和应用在审

专利信息
申请号: 202110160431.4 申请日: 2021-02-05
公开(公告)号: CN112965073A 公开(公告)日: 2021-06-15
发明(设计)人: 孟玉凰;黄河;楼歆晔;郑旭君;林涛 申请(专利权)人: 上海鲲游科技有限公司
主分类号: G01S17/08 分类号: G01S17/08;G01S17/894;G01S7/481;G02B27/09
代理公司: 宁波理文知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 33244 代理人: 罗京;孟湘明
地址: 201306 上海市浦东新区自由*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 分区 投射 装置 及其 光源 单元 应用
【权利要求书】:

1.一分区投射装置,适用于基于dTOF的一探测设备,其中该探测设备包括一接收装置,其中所述分区投射装置用于向目标场景发射光,由该接收装置接收反射光,其特征在于,其中所述分区投射装置包括:

多个分区布置的光源单元,其中不同分区的所述光源单元用于发射光照亮目标场景中的对应的不同的区域;和

至少一光调制元件,其中所述光调制元件与所述光源单元对应,其中所述光调制元件用于对不同分区的所述光源单元发出的光进行调制,形成特定的光场分布,以供该接收装置接收反射光;

其中所述光调制元件具有多个分区布置的光调制面,其中所述光调制面与所述光源单元对应,各分区的所述光源单元发射的光经对应的所述光调制面调制后,均匀地照亮对应的区域。

2.根据权利要求1所述的分区投射装置,其中多个分区布置的所述光源单元包括分区布置的第一区域光源单元和第二区域光源单元,其中所述第一区域光源单元用于发射光照亮目标场景中的第一区域,其中所述第二区域光源单元用于发射光照亮目标场景的第二区域。

3.根据权利要求1所述的分区投射装置,其中多个分区布置的所述光源单元包括分区布置的第一区域光源单元和第二区域光源单元,其中所述第一区域光源单元用于发射光照亮目标场景中的第二区域,其中所述第二区域光源单元用于发射光照亮目标场景的第一区域。

4.根据权利要求2所述的分区投射装置,其中所述第一区域光源单元的分区面积与所述第二区域光源单元的分区面积相等。

5.根据权利要求1所述的分区投射装置,其中多个分区布置的所述光源单元的分区面积不均匀。

6.根据权利要求1所述的分区投射装置,其中多个分区布置的所述光源单元的分区数目和排布方式选自:2*2、4*4、2*4、2*6以及1*12中的一种。

7.根据权利要求1所述的分区投射装置,其中所述光调制面与所述光源单元的对应方式选自:一对一、一对多以及多对多中的一种或多种组合。

8.根据权利要求2所述的分区投射装置,其中所述光调制元件具有分区布置的第一光调制面和第二光调制面,其中所述第一光调制面对应所述第一区域光源单元,其中所述第一光调制面用于调制所述第一区域光源单元发射的光,其中经所述第一光调制面调制的光朝向第一角度发射,以供照亮第一区域,其中所述第二光调制面对应所述第二区域光源单元,其中所述第二光调制面用于调制所述第二区域光源单元发射的光,其中经所述第二光调制面调制的光朝向第二角度发射,以供照亮第二区域。

9.根据权利要求3所述的分区投射装置,其中所述光调制元件具有分区布置的第一光调制面和第二光调制面,其中所述第一光调制面对应所述第一区域光源单元,其中所述第一光调制面用于调制所述第一区域光源单元发射的光,其中经所述第一光调制面调制的光朝向对应第二区域的角度发射,以供照亮第二区域,其中所述第二光调制面对应所述第二区域光源单元,其中所述第二光调制面用于调制所述第二区域光源单元发射的光,其中经所述第二光调制面调制的光朝向对应第一区域的角度发射,以供照亮第一区域。

10.根据权利要求1至9任一所述的分区投射装置,其中所述光调制元件为DOE匀光片。

11.根据权利要求1至9任一所述的分区投射装置,其中所述光调制元件为具有微透镜阵列结构的匀光元件,以供所述光源单元发射的光经所述微透镜阵列的调制,以供形成预设的光场。

12.根据权利要求11所述的分区投射装置,其中所述微透镜阵列由一组随机规则化设置的微透镜单元组成,其中各分区的所述光调制面的所述微透镜单元的部分参数各不相同,以防止光在空间传播时产生干涉条纹。

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