[发明专利]基板表面结构的制造方法

说明书

本发明系一种基板表面结构之制造方法，包括将基板的一面结合磁性板，基板的另一面设置金属屏蔽，金属屏蔽上设有复数个开孔，磁性板的磁性可以吸住金属屏蔽，令基板被紧密地压合在磁性板与金属屏蔽之间形成一待制品，再将待制品浸泡在蚀刻溶液中，使得蚀刻侵蚀基板相对开孔的位置，从蚀刻溶液中取出待制品，移除磁性板与金属屏蔽，使得基板原本相对金属屏蔽的一面在相对各开孔的位置分别形成微结构体，基板的复数个微结构体做为具有抗反射及抗污的复合功能层。

技术领域

本发明有关于光学组件，尤指一种在基板设置具有抗反射及抗污的微结构体。

背景技术

玻璃具有优异的光学性质，且对于物理性与化学性的侵蚀有较佳的抵抗能力，能用于制作出高质量之光学组件。当玻璃应用于移动电话、笔记本电脑…等具有显示面板的装置时，从玻璃到面板之间会经过多种界面，将经过各个界面反射的光会因相干作用，而使光强度较只遇到单一界面时增强或减弱。而玻璃本身并不具有抗反射(增穿透)的能力，因此，为了让玻璃的外表面(此处及以下所称之外表面，系指玻璃背对显示面板的一面)具有抗反射的能力，许多厂商系于玻璃的外表面上制作微结构体，不仅能保有玻璃优异的特性，同时能让表面反射的效果。

上述的微结构体通常称为抗反射层(Anti-Reflection Layer，或增透层)，它的主要功能是减少玻璃表面的反射光，从而增加这些组件的透光量，以及减少或消除各种杂散光。换言之，在玻璃的外表面所设置的抗反射层提高玻璃透光率，降低玻璃反射率，达到可以清晰看到显示面板的目的。而抗反射层的设置方式，一般是利用真空镀膜制程或者磁控溅射镀制程，将高低折射率材料交叉堆栈在玻璃的外表面。

又，一般抗反射层有单层及多层两种，单层膜通常镀氟化镁(MgF2)，可将单面反射率降低，并且提高穿透率提高至，多层膜可将单面反射率再降低，且可将穿透率提高至98％以上，如果在搭配上较高质量的玻璃，几乎可以达到近100％的穿透的效果。

但是，玻璃表面镀有单层或多层的抗反射层后，玻璃表面特别容易产生污渍，而污渍会破坏抗反射层的抗反射效果。其原因在于，反射膜层为复数个微结构体所组成，而在水、油污或其他污物特别容易进入到各微结构体之间的孔穴之中，进而导致抗反射层的效果降低。

这种问题的解决方案是在抗反射层上再镀一层具有疏油、疏水的抗污层(Anti-Smudge Layer)，而且抗污层必须非常薄，以令抗污层不会改变抗反射层的光学特性。抗污层的材料以氟化物为主，有二种加工方法，一种是浸泡法，一种是真空镀膜，而最常用的方法是真空镀膜。当抗反射层完成后，可使用真空镀膜制程将氟化物镀于抗反射层上。抗污层可将多孔穴的抗反射层覆盖起来，并且能够将水和油与镜片的接触面积减少，使油和水滴不易粘附于抗污层表面。

进一步而言，抗污层也是属于复数个微结构体所组成，只是抗污层的微结构体的尺寸比抗反射层的尺寸小，甚至抗污层的微结构体尺寸达到如莲叶表面的超疏水(superhydrophobicity)性质，使得落于抗污层上之水珠与其之接触角(contact angle)大于110度以上，使得水不沾附于抗污层而形成小水珠。此外，细小之纤毛使灰尘等杂质与雨水不易沾附，称为自洁(self-cleaning)特性，前述的超疏水(super hydrophobicity)性质及自洁(self-cleaning)特性通常被称为莲花效应(Lotus effect)。

如上所述各家厂商大部分专注于真空镀膜制程，真空镀膜制程需要经过黄光、微影、蚀刻…等流程，才能达到在玻璃表面设置复数微结构体的目的，但因黄光、显影需使用大量化学药剂(光阻/显影剂)，且每片玻璃都需重复使用黄光、显影制程，使得以前述方法所制作成具有抗反射层及抗污层的玻璃产品之价格不具竞争力及造成环境污染，因此需要针对此问题进行改善。

发明内容

有鉴于先前技术的问题，本发明之目的系在基板上设置具有抗反射及抗污特性的微结构体，但是在基板设置微结构体的制造过程，不需要黄光/显影流程，不用使用大量化学药剂(光阻/显影剂)，可以降低生产成本，减少环境污染，甚至可以缩短生产制造时间。