[发明专利]一种波导结构的参数优化方法

权利要求书

1.一种波导结构的参数优化方法，其特征在于，包括：

获取目标光刻工艺的特征尺寸，所述目标光刻工艺用于制作所述波导结构，所述波导结构包括宽度渐变结构；

根据预设优化算法对所述波导结构的宽度渐变结构进行参数优化，得到优化结果；所述优化结果包括预设数量的优化点，每个优化点对应所述宽度渐变结构的初始宽度至终止宽度中的一个宽度；所述预设数量大于等于第一预设阈值且小于等于第二预设阈值；

根据所述特征尺寸调整所述预设数量，继续根据预设优化算法对所述宽度渐变结构进行参数优化，直至满足预设条件后结束参数优化；

所述预设条件包括：优化结果中相邻优化点之间宽度差值大于等于所述特征尺寸，且优化点的数量大于等于第三预设阈值；

所述根据所述特征尺寸调整所述预设数量，包括：

统计优化结果中相邻优化点之间宽度差值小于所述特征尺寸的第一数量；

当前预设数量减去所述第一数量得到第二数量，将所述第二数量作为下一轮优化中优化点的预设数量。

2.根据权利要求1所述的波导结构的参数优化方法，其特征在于，所述方法还包括：

根据所述宽度渐变结构的长度和所述特征尺寸确定所述第二预设阈值。

3.根据权利要求1所述的波导结构的参数优化方法，其特征在于，所述根据所述宽度渐变结构的长度和所述特征尺寸确定所述第二预设阈值，包括：

将所述宽度渐变结构的长度与所述特征尺寸的比值，取整后作为所述第二预设阈值。

4.根据权利要求1所述的波导结构的参数优化方法，其特征在于，所述预设优化算法包括粒子群算法。

5.根据权利要求1所述的波导结构的参数优化方法，其特征在于，所述宽度渐变结构上相邻优化点之间的距离相等。

6.根据权利要求1所述的波导结构的参数优化方法，其特征在于，每个优化点对应一个宽度范围。

7.根据权利要求1所述的波导结构的参数优化方法，其特征在于，所述波导结构为光交叉波导结构、模斑转换器、Y分束器或多模干涉器MMI。