[发明专利]一种用于废水处理的菌源光敏剂及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种用于废水处理的菌源光敏剂的制备方法，其特征在于，包括：

步骤1、将光合细菌接种在光合微生物培养液中，对所述光合微生物培养液施加电势和添加抗生素，在光照条件下培养所述光合细菌；

步骤2、提取所述光合细菌的胞外聚合物，得到菌源光敏剂；

步骤1具体包括：

步骤一、将光合细菌接种在光合微生物培养液中，对所述光合微生物培养液施加电势，在光照条件下培养所述光合细菌；

步骤二、监测所述光合微生物培养液中光合细菌的产电情况，当所述光合微生物培养液的电流降至最低点时，向所述光合细菌中更换新鲜光合微生物培养液继续培养，直至监测到的所述光合微生物具有3个以上连续稳定的电流周期；

步骤三、对所述具有3个以上连续稳定的电流周期的所述光合微生物培养液中添加抗生素，在光照条件下培养所述光合细菌；

所述电势为-0.2V~0.4V；

所述抗生素为磺胺嘧啶；

所述光合细菌为沼泽红假单胞菌。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述抗生素在光合微生物培养液的浓度为0.1~5 mg/L。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述电势通过三电极体系施加在所述光合微生物培养液中；所述三电极体系包括：工作电极、对电极和参比电极。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述光合微生物培养液包括磷酸缓冲溶液、常量元素溶液、复合维生素溶液、痕量金属溶液、菌生长媒介溶液和水；

所述磷酸缓冲溶液、所述常量元素溶液、所述复合维生素溶液、所述痕量金属溶液、所述菌生长媒介溶液和所述水的体积比（60~70）:（25~30）：1:（4~6）：（25~30）:（125~135）。

5.一种用于废水处理的菌源光敏剂，其特征在于，包括如权利要求1至4任意一项所述的制备方法制得的菌源光敏剂。

6.权利要求1至4任意一项所述的制备方法制得的菌源光敏剂或权利要求5所述的菌源光敏剂在光照条件下降解微污染水源水中有机污染物的应用。

7.根据权利要求6所述的应用，其特征在于，所述菌源光敏剂在废水中的TOC浓度为15~25 mg/L。