[发明专利]一种色散可控式大带宽啁啾光纤光栅的制备方法有效
申请号: | 202110164191.5 | 申请日: | 2021-02-05 |
公开(公告)号: | CN112946812B | 公开(公告)日: | 2022-10-11 |
发明(设计)人: | 闫海涛;谢占武;梁晓瑞 | 申请(专利权)人: | 河南渡盈光电科技有限公司 |
主分类号: | G02B6/02 | 分类号: | G02B6/02 |
代理公司: | 洛阳公信联创知识产权代理有限公司 41190 | 代理人: | 周会芝 |
地址: | 471000 河南省洛阳市洛龙*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 色散 可控 带宽 啁啾 光纤 光栅 制备 方法 | ||
1.一种色散可控式大带宽啁啾光纤光栅的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤A、载氢增敏处理光纤,将处理后的光纤放入-5至-40℃低温冷冻室内保存;
步骤B、根据不同光纤通信系统中传输损耗或者增益光谱,获取通讯带宽范围内的各个波长处损耗或增益的相对量,然后根据从传输损耗或者增益光谱中提取目标光谱函数参数,基于数据拟合原理,拟合通讯带宽内对应的损耗增益谱曲线;
步骤C、然后根据损耗增益谱曲线计算每个波长处对应的反射率R,进而计算出啁啾光纤光栅的栅格的有效折射率neff,从而最终精确的获得各个波长处的色散值D;
步骤D、将反射光功率强度、波长、损耗值和色散值,导入光纤光栅刻写光源控制驱动软件中,生成曝光刻写曲线函数;
步骤E、利用紫外掩膜版刻写光栅系统,将步骤A得到的光纤放置在紫外掩膜版刻写光栅系统的相位掩膜版前区,将拟合完成的曝光刻写曲线函数导入光源控制驱动软件中,并将曝光刻写曲线函数分解为曝光频率、曝光功率密度、光斑尺寸和光斑移动速度的子函数,通过各子函数控制驱动控制器,开始制备啁啾光纤光栅;
步骤G、将步骤E刻写完成啁啾光纤光栅,放入干燥鼓风箱内120-150℃退火,10-12h后完成,获得了色散可控的大带宽的啁啾光纤光栅。
2.如权利要求1所述的一种色散可控式大带宽啁啾光纤光栅的制备方法,其特征在于:载氢增敏处理光纤的具体过程为,将光纤放入载氢反应装置内,在10Mpa-15Mpa的高压、80℃-95℃高温条件下进行载氢处理,排出载氢反应装置内高压高温氢气,取出载氢反应装置内的光纤具有光敏性。
3.如权利要求1所述的一种色散可控式大带宽啁啾光纤光栅的制备方法,其特征在于:色散值D的计算方法为
D=2neff/cδλ
其中,c为真空中的光速,δλ为光纤光栅带宽范围内的波长均方根谱宽;n0为光纤的原有折射率;Δn(z)为轴向折射率调制深度,调制范围10-5-10-3,v为光纤光栅的边缘可见度,φ(z)=Cz2/L2为光纤光栅的轴向啁啾分布函数,L为光纤光栅栅区长度、C为啁啾光栅啁啾系数、z为光纤轴向传播方向位置函数、Λ为光栅周期。
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