[发明专利]一种超疏水日间被动辐射制冷多孔膜及制备方法

权利要求书

1.一种超疏水日间被动辐射制冷多孔膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

（1）将无机纳米粒子分散于水中，配置成无机纳米粒子分散液；所述的无机纳米粒子为氮化硅和氧化硅纳米粒子中的一种或多种；

（2）向无机纳米粒子分散液中加入含氟基团改性剂，20~40℃下磁力搅拌15-24 h，对无机纳米粒子进行改性，获得改性无机纳米粒子分散液；

改性无机纳米粒子的粒径分布为50~1000nm；

所述的含氟基团改性剂为1H,1H,2H,2H-全氟辛基三乙氧基硅烷和/或1H,1H,2H,2H-全氟癸基三乙氧基硅烷；

（3）将有机聚合物溶解于有机溶剂中，形成有机聚合物溶液；

所述的有机聚合物为聚偏氟乙烯-六氟丙烯、聚二甲基硅氧烷和聚甲基丙烯酸甲酯中的至少一种；

（4）将改性无机纳米粒子分散液加入到有机聚合物溶液中，分散均匀，形成前驱液；

（5）将所述的前驱液涂覆在基材上，干燥，即得超疏水日间被动辐射制冷多孔膜；所述的超疏水日间被动辐射制冷多孔膜厚度为100~1000μm。

2.根据权利要求1所述的超疏水日间被动辐射制冷多孔膜的制备方法，其特征在于，步骤（2）中，无机纳米粒子与含氟基团改性剂的质量比为1：3~15。

3.根据权利要求1所述的超疏水日间被动辐射制冷多孔膜的制备方法，其特征在于，所述的有机聚合物和有机溶剂的质量比为1：20~80。

4.根据权利要求1所述的超疏水日间被动辐射制冷多孔膜的制备方法，其特征在于，所述的前驱液中，改性无机纳米粒子的质量分数为1~20%。

5.根据权利要求1所述的超疏水日间被动辐射制冷多孔膜的制备方法，其特征在于，步骤（5）中，所述的涂覆的方式为滴铸、棒材涂覆或刮涂。

6.一种超疏水日间被动辐射制冷多孔膜，其特征在于，采用权利要求1~5任一项所述的制备方法制得，其厚度为100~1000μm。

7.根据权利要求6所述的超疏水日间被动辐射制冷多孔膜，其特征在于，厚度为300~500μm。