[发明专利]一种光学保护膜及其制备方法、光学部件在审
申请号: | 202110173670.3 | 申请日: | 2021-02-06 |
公开(公告)号: | CN112961618A | 公开(公告)日: | 2021-06-15 |
发明(设计)人: | 李虹华;李思升 | 申请(专利权)人: | 四川兆纪光电科技有限公司 |
主分类号: | C09J7/25 | 分类号: | C09J7/25;C09J7/24;C09J7/38;C09J133/04;C09J11/06 |
代理公司: | 成都市集智汇华知识产权代理事务所(普通合伙) 51237 | 代理人: | 沈璐蓓 |
地址: | 635000 四川省达*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光学 保护膜 及其 制备 方法 部件 | ||
1.一种光学保护膜,其特征在于,包括由下往上依次设置的基材膜、抗静电粘结剂层、剥离膜;所述抗静电粘结剂层含有抗静电剂、有机过氧化物固化剂和压敏粘合剂。
2.权利要求1所述的光学保护膜,其特征在于,所述压敏粘合剂为丙烯酸酯压敏胶。
3.权利要求1所述的光学保护膜,其特征在于,所述抗静电剂为N,N-双(氟磺酰基)亚胺钾。
4.权利要求1所述的光学保护膜,其特征在于,所述有机过氧化物固化剂为过氧化二苯甲酰。
5.权利要求1所述的光学保护膜,其特征在于,所述基材膜、剥离膜均为PET薄膜、PP薄膜、PVC薄膜和PC薄膜中的任意一种。
6.权利要求1所述的表面保护膜,其特征在于,所述基材膜和所述剥离膜的厚度为20-200μm,所述抗静电粘结剂层厚度为10-30μm。
7.一种权利要求1~6任意一项所述的光学保护膜的制备方法,其特征在于,包括:
将基材膜上涂覆抗静电粘结剂,烘干固化得到涂布抗静电粘结层;
涂布抗静电粘结层上贴合剥离膜。
8.权利要求7所述的制备方法,其特征在于,烘干过程温度100~120℃,时间2~10min。
9.权利要求7所述的制备方法,其特征在于,还包括:将压敏粘合剂、有机过氧化物固化剂、抗静电剂和溶剂混合,混匀,得到抗静电粘结剂。
10.一种光学部件,其特征在于,其贴合有权利要求1~6任意一项所述的光学保护膜。
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