[发明专利]一种光学扩散膜及其制备方法、背光模组在审

专利信息
申请号: 202110173751.3 申请日: 2021-02-06
公开(公告)号: CN112965151A 公开(公告)日: 2021-06-15
发明(设计)人: 李虹华;李思升 申请(专利权)人: 四川兆纪光电科技有限公司
主分类号: G02B5/02 分类号: G02B5/02;G02F1/13357;G02B6/00
代理公司: 成都市集智汇华知识产权代理事务所(普通合伙) 51237 代理人: 沈璐蓓
地址: 635000 四川省达*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 光学 扩散 及其 制备 方法 背光 模组
【权利要求书】:

1.一种光学扩散膜,其特征在于,由上至下依次包括:第一扩散层、基材层和第二扩散层;所述第二扩散层和所述第一扩散层内设置有助扩散粒子和扩散粒子,所述第二扩散层中助扩散粒子和扩散粒子含量大于所述第一扩散层中助扩散粒子和扩散粒子含量,所述第二扩散层中助扩散粒子和扩散粒子的粒径小于所述第一扩散层中助扩散粒子和扩散粒子的粒径。

2.根据权利要求1所述的光学扩散膜,其特征在于,所述扩散粒子为二氧化硅粒子和聚甲基丙烯酸甲酯粒子,所述助扩散粒子为氧化钛粒子。

3.根据权利要求2所述的光学扩散膜,其特征在于,所述二氧化硅粒子和聚甲基丙烯酸甲酯粒子含量1:1。

4.根据权利要求1所述的光学扩散膜,其特征在于,所述第一扩散层中助扩散粒子和扩散粒子的粒径为120~150nm,所述第二扩散层中助扩散粒子和扩散粒子的粒径为60~100nm。

5.根据权利要求1所述的光学扩散膜,其特征在于,所述第一扩散层和所述第二扩散层厚度为40~60μm。

6.一种权利要求1~5任意一项所述的光学扩散膜的制备方法,其特征在于,包括:

基材层上涂布第一扩散层的涂液原料,烘干处理,基材层下侧涂布第二扩散层的涂液原料,烘干处理,老化处理,形成第一扩散层和第二扩散层:所述第二扩散层和所述第一扩散层内设置有助扩散粒子和扩散粒子,所述第二扩散层中助扩散粒子和扩散粒子含量大于所述第一扩散层中助扩散粒子和扩散粒子含量。

7.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,所述制备方法还包括:

以重量份计,将50份稀释剂、10份扩散粒子、2份助扩散粒子30份粘合剂和2份交联剂混合,制得第一扩散层的涂液原料;

以重量份计,将50份稀释剂、16份扩散粒子、3份助扩散粒子30份粘合剂和2份交联剂混合,制得第二扩散层的涂液原料。

8.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,所述制备方法还包括:

以重量份计,将50份稀释剂、10份扩散粒子、2份助扩散粒子加入到分散机中,在1000r/min的转速下分散20~30min,然后加入30份粘合剂,在700r/min的转速下分散10~15min,接着加入2份交联剂,在500r/min的转速下分散15~20min,制得第一扩散层的涂液原料;

以重量份计,将50份稀释剂、16扩散粒子、3份助扩散粒子加入到分散机中,在1000r/min的转速下分散20~30min,然后加入30份粘合剂,在700r/min的转速下分散10~15min,接着加入2份交联剂,在500r/min的转速下分散15~20min,制得第二扩散层的涂液原料。

9.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,所述制备方法具体包括:

基材层上涂布第一扩散层的涂液原料,100℃烘干处理30s,基材层下侧涂布第二扩散层的涂液原料,100℃烘干处理30s,55℃的老化温度下老化处理60min,形成第一扩散层和第二扩散层:所述第二扩散层和所述第一扩散层内设置有助扩散粒子和扩散粒子,所述第二扩散层中助扩散粒子和扩散粒子含量大于所述第一扩散层中助扩散粒子和扩散粒子含量。

10.一种背光模组,其特征在于,所述背光模组包括权利要求1~5任意一项所述的光学扩散膜。

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