[发明专利]工件台结构及包含该结构的光刻系统及其曝光方法

权利要求书

1.工件台结构，其特征在于：包括第一承载平台以及与所述第一承载平台连接的运动组件，以用于通过所述运动组件实现所述第一承载平台沿预设轨迹运动，以实现承载于所述第一承载平台的待曝光样品在运动中被曝光。

2.如权利要求1所述的工件台结构，其特征在于：所述预设轨迹为圆形预设轨迹，所述运动组件包括可沿圆形预设轨迹旋转的第一运动组件。

3.如权利要求1所述的工件台结构，其特征在于：所述预设轨迹为圆形预设轨迹，所述运动组件包括可沿圆形预设轨迹运动的第二运动组件。

4.如权利要求2所述的工件台结构，其特征在于：

所述第一运动组件包括

第一驱动机构，所述第一驱动机构与所述第一承载平台连接，所述第一驱动机构用于实现所述第一承载平台旋转运动；

第二驱动机构，所述第二驱动机构与第一驱动机构连接，以用于实现待曝光样品升降，使所述待曝光样品的曝光区域位于焦面。

5.如权利要求4所述的工件台结构，其特征在于：所述第一驱动机构包括安装支架以及旋转模组，所述旋转模组具有部分与所述安装支架连接，所述旋转模组使被连接的所述安装支架实现旋转运动。

6.如权利要求4所述的工件台结构，其特征在于：所述第二驱动机构包括安装平台以及与所述安装平台连接的至少一第一升降模组，所述第一升降模组实现所述安装平台沿垂向运动。

7.如权利要求6所述的工件台结构，其特征在于：所述第二驱动机构还包括至少一柔性连接片，所述柔性连接片的近端与支撑座连接，所述柔性连接片的远端连接所述安装平台，以用于提高所述安装平台沿垂向运动时的导向性能。

8.如权利要求1所述的工件台结构，其特征在于：所述工件台结构还包括交接机构，所述交接机构包括第二升降模组以及与所述第二升降模组活动端连接的至少一接片杆，所述接片杆的远端具有第一真空吸附单元。

9.如权利要求1所述的工件台结构，其特征在于：在所述第一承载平台上设置至少一第二真空吸附单元。

10.如权利要求3所述的工件台结构，其特征在于：所述第二运动组件包括第一直线运动模组和第二直线运动模组，所述第一直线运动模组与第二承载平台连接，所述第二直线运动模组与所述第一直线运动模组连接，其中

所述第一直线运动模组用于第二承载平台实现沿第一方向平移；

所述第二直线运动模组用于实现带有第二承载平台的第一直线运动模组沿第二方向平移。

11.光刻系统，其特征在于：包括权利要求1～10任一项所述工件台结构以及三轴运动机构及与所述三轴运动机构连接的曝光机构，所述工件台结构控制所述第一承载平台沿预设扫描运动方向旋转运动，所述三轴运动机构控制所述曝光机构根据所述工件台结构的预设扫描运动方向对所述待曝光样品进行曝光。

12.一种采用如权利要求11所述光刻系统的曝光方法，其特征在于包括以下步骤：

上样，待曝光样品移载至第一承载平台；

调焦调平，消除待曝光样品与曝光机构之间在垂直面上的焦面误差；

标记测量，使待曝光样品与曝光机构之间在水平方向上对准；

曝光，对待曝光样品进行曝光；

下样，将已曝光的样品从第一承载平台移出。

13.如权利要求12所述光刻系统的曝光方法，其特征在于：

所述曝光包括单次曝光或多次曝光。

14.如权利要求12所述光刻系统的曝光方法，其特征在于：

所述曝光包括以下步骤：

S1：在所述待曝光样品表面曝光内圈光斑；

S2：以所述内圈光斑为中心至少曝光一次，直至外圈光斑覆盖面积与待曝光样品需曝光的区域全覆盖时，停止曝光。