[发明专利]一种等离子喷嘴结构在审

专利信息
申请号: 202110176888.4 申请日: 2021-02-07
公开(公告)号: CN112804807A 公开(公告)日: 2021-05-14
发明(设计)人: 韦英康;韦英振 申请(专利权)人: 东莞科祺自动化设备有限公司
主分类号: H05H1/34 分类号: H05H1/34
代理公司: 广东法制盛邦律师事务所 44713 代理人: 黄开颜
地址: 523000 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 等离子 喷嘴 结构
【权利要求书】:

1.一种等离子喷嘴结构,其特征在于:包括喷嘴本体,所述喷嘴本体内设置有喷射通道,所述喷射通道的出口周围设置有与所述喷射通道连通的孔道。

2.根据权利要求1所述的等离子喷嘴结构,其特征在于:所述喷射通道包括入口通道、出口通道和连接所述入口通道与所述出口通道的连接通道,所述入口通道的直径大于所述出口通道的直径,所述连接通道为从入口方向向出口方向逐渐变窄的通道。

3.根据权利要求2所述的等离子喷嘴结构,其特征在于:所述入口通道与所述连接通道之间设置有第一通道,所述出口通道与所述连接通道之间设置有第二通道。

4.根据权利要求2所述的等离子喷嘴结构,其特征在于:所述入口通道为从外向内渐窄的通道。

5.根据权利要求3所述的等离子喷嘴结构,其特征在于:所述第一通道为圆柱形孔道。

6.根据权利要求3所述的等离子喷嘴结构,其特征在于:所述第二通道为圆柱形孔道,其直径与所述连接通道的靠近所述出口通道的一侧的直径相同。

7.根据权利要求3所述的等离子喷嘴结构,其特征在于:所述出口通道的直径小于所述第二通道的直径。

8.根据权利要求3所述的等离子喷嘴结构,其特征在于:所述孔道的一内侧壁与所述第二通道的一内侧壁处于同一条直线上。

9.根据权利要求1所述的等离子喷嘴结构,其特征在于:所述孔道设置为均匀分布的若干个。

10.根据权利要求1所述的等离子喷嘴结构,其特征在于:所述喷嘴本体的外表面设置有凹槽。

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