[发明专利]信息处理装置、信息处理方法以及计算机可读记录介质在审

专利信息
申请号: 202110177111.X 申请日: 2021-02-09
公开(公告)号: CN113296367A 公开(公告)日: 2021-08-24
发明(设计)人: 田所真任;榎本正志;鹤田丰久;中村泰之;柴和宏 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 信息处理 装置 方法 以及 计算机 可读 记录 介质
【权利要求书】:

1.一种信息处理装置,具备:

预测部,其构成为基于膜厚模型和事前数据来计算基板处理装置对基板进行处理时的预测膜厚,所述膜厚模型表示所述基板处理装置的状态与通过所述基板处理装置形成于所述基板的表面的涂布膜的膜厚的关系,所述事前数据表示通过所述基板处理装置对所述基板进行处理前的所述基板处理装置的状态;以及

输出部,在通过所述基板处理装置对所述基板进行处理之前,所述输出部基于所述预测膜厚来输出与所述基板的处理有关的指示信息。

2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,

所述输出部具有计算部,所述计算部构成为基于所述预测膜厚来计算所述基板处理装置对所述基板进行处理的处理条件。

3.根据权利要求2所述的装置,其特征在于,

还具备控制部,所述控制部构成为基于所述计算部计算出的所述处理条件来控制所述基板处理装置。

4.根据权利要求1至3中的任一项所述的装置,其特征在于,

所述输出部具有判断部,所述判断部基于所述预测膜厚来输出指示是否继续进行所述基板的处理的指示信息。

5.根据权利要求1或2所述的装置,其特征在于,

还具备更新部,所述更新部构成为基于事后数据和通过利用所述基板处理装置对所述基板进行处理而形成于所述基板的表面的涂布膜的膜厚实测值来更新所述膜厚模型,所述事后数据表示进行完对所述基板的处理时的所述基板处理装置的状态。

6.根据权利要求5所述的装置,其特征在于,

所述更新部构成为基于所述基板处理装置对所述基板进行处理的处理条件、所述事后数据以及所述膜厚实测值来更新所述膜厚模型。

7.根据权利要求1或2所述的装置,其特征在于,

所述膜厚模型为由多个偏回归系数和多个解释变量构成的多元回归式。

8.一种信息处理装置,具备:

预测部,其构成为基于线宽模型和事前数据来计算通过基板处理装置对基板进行处理时的预测线宽,所述线宽模型表示所述基板处理装置的状态与通过所述基板处理装置形成于基板的表面的图案的线宽的关系,所述事前数据表示通过所述基板处理装置对所述基板进行处理前的所述基板处理装置的状态;以及

输出部,在通过所述基板处理装置对所述基板进行处理之前,所述输出部基于所述预测线宽来输出与所述基板的处理有关的指示信息。

9.根据权利要求8所述的装置,其特征在于,

所述输出部具有计算部,所述计算部构成为基于所述预测线宽来计算所述基板处理装置对所述基板进行处理的处理条件。

10.根据权利要求9所述的装置,其特征在于,

还具备控制部,所述控制部构成为基于所述计算部计算出的所述处理条件来控制所述基板处理装置。

11.根据权利要求8至10中的任一项所述的装置,其特征在于,

所述输出部具有判断部,所述判断部基于所述预测线宽来输出指示是否继续进行所述基板的处理的指示信息。

12.根据权利要求8或9所述的装置,其特征在于,

还具备更新部,所述更新部构成为基于事后数据和通过利用所述基板处理装置对所述基板进行处理而形成于所述基板的表面的图案的线宽实测值来更新所述线宽模型,所述事后数据表示进行完对所述基板的处理时的所述基板处理装置的状态。

13.根据权利要求12所述的装置,其特征在于,

所述更新部构成为基于所述基板处理装置对所述基板进行处理的处理条件、所述事后数据以及所述线宽实测值来更新所述线宽模型。

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