[发明专利]视场光阑位置测量装置及测量方法

说明书

本发明提供了一种视场光阑位置测量装置及测量方法，视场光阑位置测量装置包括：反射光探测单元，包括探测光源和成像探测器，探测光源用于从反射光探测单元的探测面发出探测光，成像探测器用于探测成像于探测面内的被测视场光阑的边界轮廓像以及测量不同高度下边界轮廓像的边界锐利度；第一移动单元，用于带动反射光探测单元移动；第一成像单元，设置于反射光探测单元和被测视场光阑之间；以及，探测光反射单元，设置于被测视场光阑的远离第一成像单元的一侧，用于反射探测光，以使得将被测视场光阑的边界轮廓成像于探测面内。本发明的技术方案能够提高空间适应性以及降低光源的设计需求，降低了成本。

技术领域

本发明涉及光学系统性能检测领域，特别涉及一种视场光阑位置测量装置及测量方法。

背景技术

在光刻系统中，视场光阑的位置影响曝光的效果，因此，需要对视场光阑的位置进行测量，使得视场光阑设置于最佳位置。现有的视场光阑位置测量装置中，光源和探测器分布于待测视场光阑的两侧，占用空间大，导致空间适应性差，且成本较高。

因此，需要设计一种新的视场光阑位置测量装置及测量方法，以解决上述问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种视场光阑位置测量装置及测量方法，能够提高空间适应性以及降低光源的设计需求，降低了成本。

为实现上述目的，本发明提供了一种视场光阑位置测量装置，包括：

反射光探测单元，包括探测光源和成像探测器，所述探测光源用于从所述反射光探测单元的探测面发出探测光，所述成像探测器用于探测成像于所述探测面内的被测视场光阑的边界轮廓像以及测量不同高度下所述边界轮廓像的边界锐利度；

第一移动单元，用于带动所述反射光探测单元移动；

第一成像单元，设置于所述反射光探测单元和所述被测视场光阑之间；以及，

探测光反射单元，设置于所述被测视场光阑的远离所述第一成像单元的一侧，用于反射所述探测光，以使得通过所述第一成像单元将所述被测视场光阑的边界轮廓成像于所述探测面内。

可选的，所述探测光反射单元的等效反射面经所述第一成像单元在所述反射光探测单元一侧的共轭面与所述被测视场光阑经所述第一成像单元在所述反射光探测单元一侧的成像面不共面。

可选的，所述共轭面与所述成像面之间的距离大于所述成像探测器在光轴方向上的探测长度的1/4。

可选的，所述反射光探测单元还包括第一会聚组件、分光镜、准直组件和第二会聚组件，所述探测光源发出的出射光依次经过所述第一会聚组件、所述分光镜和所述准直组件后，经所述探测面形成为所述探测光；所述探测光反射单元反射的所述探测光经所述探测面之后，依次经所述准直组件、所述分光镜和所述第二会聚组件后被所述成像探测器所探测。

可选的，所述第一移动单元用于带动所述反射光探测单元在相互垂直的X轴、Y轴、Z轴方向移动；或者，所述反射光探测单元具有可变焦功能，所述第一移动单元用于带动所述反射光探测单元在相互垂直的X轴、Y轴方向移动。

可选的，所述反射光探测单元还包括第二成像单元，设置于所述被测视场光阑和所述探测光反射单元之间。

可选的，所述探测光反射单元为掩膜版，所述掩膜版上设置有加工标记。

可选的，所述反射光探测单元还包括第二移动单元，用于在光轴方向上移动所述探测光反射单元。

本发明还提供了一种视场光阑位置测量方法，包括：

步骤S1，采用第一移动单元带动反射光探测单元移动，使得所述反射光探测单元探测到被测视场光阑的边界轮廓像；

步骤S2，测量不同高度下的所述边界轮廓像的边界锐利度；