[发明专利]离子径迹多孔膜及其物理制备方法与应用有效
申请号: | 202110180823.7 | 申请日: | 2021-02-08 |
公开(公告)号: | CN112973458B | 公开(公告)日: | 2022-12-27 |
发明(设计)人: | 段敬来;徐国恒;胡正国 | 申请(专利权)人: | 中国科学院近代物理研究所 |
主分类号: | B01D67/00 | 分类号: | B01D67/00;B01D69/02 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人: | 关畅 |
地址: | 730000 甘*** | 国省代码: | 甘肃;62 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 离子 径迹 多孔 及其 物理 制备 方法 应用 | ||
1.一种制备离子径迹多孔膜的方法,包括:
将膜材料进行辐照和拉伸,而得;
所述辐照能够使所述膜材料的辐照区域材料发生微观结构损伤,且所述辐照区域材料的力学强度低于所述膜材料本体;
所述拉伸能够使所述膜材料的辐照区域材料的结构转化为孔道;
所述辐照为用离子加速器或裂变碎片进行辐照;
所述辐照的离子选自86Kr、129Xe、181Ta和209Bi中至少一种;
所述膜材料为塑性且离子能够在其中形成离子径迹。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述制备离子径迹多孔膜的方法,包括:
将膜材料进行处理A或处理B,而得;
所述处理A包括:依次进行所述辐照和所述拉伸;
所述处理B包括:在所述辐照的同时进行所述拉伸。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于:所述孔道为非圆形截面通孔;
所述孔密度通过离子辐照注量调控且与所述离子辐照注量相同;
孔径为0.2-0.800nm。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于:所述孔径为0.684nm-0.800nm。
5.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于:所述膜材料选自PC、PET、PI、PPS、PEEK、PTFE、PVDF、PFA、FEP、E-CTFE和PVF中至少一种;
所述辐照步骤中,辐照的离子能够在所述膜材料中形成离子径迹。
6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于:所述PC膜的辐照注量为5×109ions/cm2;
所述PET膜的辐照注量为1×1010ions/cm2;
所述PI膜的辐照注量为1×1010ions/cm2;
所述PPS膜的辐照注量具为5×1010ions/cm2;
所述PEEK、PTFE、PVDF、PFA、FEP、E-CTFE和PVF注量均为1×1011ions/cm2。
7.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于:所述拉伸步骤中,拉伸比为5%-500%;拉伸方向为单向或多向。
8.权利要求1-6任一所述方法制备得到的离子径迹多孔膜;
所述离子径迹多孔膜的孔径为0.2-0.800nm。
9.权利要求8所述离子径迹多孔膜在物质分离中的应用;
所述物质分离中,分离对象选自离子和分子中至少一种。
10.根据权利要求9所述的应用,其特征在于:所述物质分离包括如下三种分离方式:
a、将不同离子进行分离;
b、将离子和分子进行分离;
c、将不同分子进行分离。
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