[发明专利]一种相控阵列天线副瓣快速计算方法及降副瓣方法有效

专利信息
申请号: 202110181871.8 申请日: 2021-02-08
公开(公告)号: CN112926261B 公开(公告)日: 2022-12-02
发明(设计)人: 张毅;缪科;孙厚军;王天翼 申请(专利权)人: 北京理工大学
主分类号: G06F30/27 分类号: G06F30/27
代理公司: 北京理工大学专利中心 11120 代理人: 李爱英;付雷杰
地址: 100081 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 相控阵 天线 快速 计算方法 降副瓣 方法
【权利要求书】:

1.一种相控阵列天线副瓣快速计算方法,其特征在于,所述方法包括:

基于所述相控阵列天线的阵因子,得到所述相控阵列天线的功率方向图,所述相控阵列天线阵元分布在X-Y平面上,则相控阵列天线的阵因子可以为:

其中,In为第n个相控阵列天线阵元的馈电幅度,In=|An|(1+εn),εn为第n个相控阵列天线阵元的相对幅度误差,k为波矢,k0表示波束指向X或Y方向的波矢,δn为第n个相控阵列天线阵元的相对相位误差;

对所述相控阵列天线的功率方向图进行推导,得到功率方向图中任意一点与距离参考点最近的峰值之间的差值,通过差值可以得到所述相控阵列天线的副瓣精确位置;

将所述相控阵列天线的副瓣位置代入到所述相控阵列天线的阵因子,计算得到所述相控阵列天线的副瓣大小;

所述相控阵列天线的副瓣大小PSL为:

其中,(uSL,vSL)为相控阵列天线的副瓣角度位置。

2.根据权利要求1所述的相控阵列天线副瓣快速计算方法,其特征在于,所述相控阵列天线是一维或二维的。

3.一种基于权利要求1-2任一项所述的相控阵列天线副瓣快速计算的降副瓣方法,其特征在于,所述方法包括:

P1:初始化所述相控阵列天线阵元个数、分布、相位、馈电幅度,各阵元的幅度误差和相位误差;

P2:根据所述相控阵列天线的阵因子和所述相控阵列天线阵元的分布、相位、馈电幅度、幅度误差和相位误差,计算得到一组所述相控阵列天线副瓣的初始位置,所述初始位置作为所述相控阵列天线副瓣的参考位置;

P3:利用所述相控阵列天线副瓣快速计算方法得到所述相控阵列天线所有副瓣的精确位置和大小;

P4:利用遗传算法对所述相控阵列天线馈电幅度进行选择、交叉和变异,得到子代相控阵列天线馈电幅度;

P5:将P3计算得到的所述相控阵列天线副瓣精确位置作为新的副瓣参考位置;

P6:重复P3-P5,当P3得到的所述相控阵列天线副瓣的大小达到预设条件时,得到所述相控阵列天线副瓣的一组馈电幅度,实现相控阵列天线副瓣的降幅。

4.根据权利要求3所述的降副瓣方法,其特征在于,在所述利用遗传算法对所述相控阵列天线副瓣大小进行选择、交叉和变异之前,包括:

选取P3计算得到的所述相控阵列天线的最大副瓣作为所述遗传算法的适应度。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京理工大学,未经北京理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110181871.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top