[发明专利]一种触控基板及其制备方法、显示装置在审

专利信息
申请号: 202110184210.0 申请日: 2021-02-08
公开(公告)号: CN112905049A 公开(公告)日: 2021-06-04
发明(设计)人: 姜立清;张贵玉;罗鸿强;张光均;王强 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: G06F3/041 分类号: G06F3/041
代理公司: 北京市铸成律师事务所 11313 代理人: 郗名悦;闫茂娟
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 触控基板 及其 制备 方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种触控基板,其特征在于,包括可视区域,所述触控基板包括:

盖板基底;

触控结构层,位于所述盖板基底的一侧;以及,

色度功能层,至少位于所述可视区域,所述色度功能层被配置为降低所述触控基板的可视区域的黄色色度。

2.根据权利要求1所述的触控基板,其特征在于,

所述色度功能层包括色度调节层,所述色度调节层位于所述盖板基底和所述触控结构层之间,所述色度调节层的色品指数b*满足-3<b*<-1;或者,

所述色度功能层包括色度调节层,所述色度调节层位于所述盖板基底背离所述触控结构层的一侧,所述色度调节层的色品指数b*满足-3<b*<-1。

3.根据权利要求2所述的触控基板,其特征在于,

所述色度调节层的材质包括五氧化二铌;和/或,

所述色度调节层的厚度为150埃米至250埃米。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的触控基板,其特征在于,所述触控结构层包括依次叠层设置的第一金属层、第一绝缘层、第二金属层和第二绝缘层,所述第一金属层朝向所述盖板基底,

所述色度功能层包括所述第一绝缘层,所述第一绝缘层开设有位于所述可视区域的至少一个第一镂空。

5.根据权利要求4所述的触控基板,其特征在于,所述第一金属层包括位于所述可视区域的第一电极,所述第一电极呈第一网格状,所述第一镂空与所述第一电极限定的第一网格相对应,所述第一镂空在所述盖板基底上的正投影位于所述第一网格在所述盖板基底上的正投影范围内。

6.根据权利要求1至3中任一项所述的触控基板,其特征在于,所述触控结构层包括依次叠层设置的第一金属层、第一绝缘层、第二金属层和第二绝缘层,所述第一金属层朝向所述盖板基底,

所述色度功能层包括所述第二绝缘层,所述第二绝缘层开设有位于所述可视区域的至少一个第二镂空。

7.根据权利要求6所述的触控基板,其特征在于,所述第二金属层包括位于所述可视区域的第二电极,所述第二电极呈第二网格状,所述第二镂空与所述第二电极限定的第二网格相对应,所述第二镂空在所述盖板基底上的正投影位于所述第二网格在所述盖板基底上的正投影范围内。

8.一种触控基板的制备方法,其特征在于,所述触控基板包括可视区域,所述方法包括:

在盖板基底上形成触控结构层和色度功能层,

其中,所述触控结构层位于所述盖板基底的一侧,所述色度功能层至少位于所述可视区域,被配置为降低所述触控基板的可视区域的黄色色度。

9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,所述在盖板基底上形成触控结构层和色度功能层,包括:

在所述盖板基底的一侧形成色度调节层,在所述盖板基底的另一侧形成所述触控结构层,其中,所述色度调节层的色品指数b*满足-3<b*<-1,或者,

在所述盖板基底的一侧形成色度调节层,所述色度调节层的色品指数b*满足-3<b*<-1;在所述色度调节层背离所述盖板基底的一侧形成所述触控结构层。

10.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,形成触控结构层包括:

形成第一金属层;

在所述第一金属层背离所述盖板基底的一侧形成第一绝缘层;

在所述第一绝缘层背离所述盖板基底的一侧形成第二金属层;

在所述第二金属层背离所述盖板基底的一侧形成第二绝缘层,

其中,所述第一绝缘层开设有位于所述可视区域的至少一个第一镂空,和/或,所述第二绝缘层开设有位于所述可视区域的至少一个第二镂空。

11.一种显示装置,其特征在于,包括显示基板以及权利要求1至7中任一项所述的触控基板,所述触控基板与所述显示基板相对设置,所述触控结构层的远离所述盖板基底的一侧朝向所述显示基板。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110184210.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top