[发明专利]一种基于多触点的水射流定位装置及方法在审

专利信息
申请号: 202110187183.2 申请日: 2021-02-08
公开(公告)号: CN114905157A 公开(公告)日: 2022-08-16
发明(设计)人: 赵吉宾;乔红超;曹治赫;张旖诺;于永飞;滕啸天 申请(专利权)人: 中国科学院沈阳自动化研究所
主分类号: B23K26/36 分类号: B23K26/36;B23K26/70;B23K26/146;B23K26/08
代理公司: 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 代理人: 汪海
地址: 110016 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 触点 水射流 定位 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种基于多触点的水射流定位装置,其特征在于:包括运动底座(7)、微调元件(5)、运动底座驱动机构、可伸缩底座(3)、力传感器(2)和感应片,其中运动底座(7)安装于所述运动底座驱动机构上,且所述运动底座(7)具有X、Y、Z三个方向的移动自由度,水导激光加工模块(4)通过多个微调元件(5)支撑安装于所述运动底座(7)上,可伸缩底座(3)前端设有射流孔(9),且所述水导激光加工模块(4)发出的水射流(8)穿过所述射流孔(9),所述射流孔(9)的X向两侧以及Y向两侧均设有力传感器(2),且每个力传感器(2)上均设有感应片,当水射流(8)与感应片接触时触发对应的力传感器(2)向所述检测控制系统发出信号,所述运动底座驱动机构和微调元件(5)均通过所述检测控制系统控制。

2.根据权利要求1所述的基于多触点的水射流定位装置,其特征在于:所述水导激光加工模块(4)上端设有模块法兰(401),且所述微调元件(5)上端与所述模块法兰(401)外缘铰接。

3.根据权利要求1所述的基于多触点的水射流定位装置,其特征在于:所述运动底座(7)上设有一个限位孔(6),且所述水导激光加工模块(4)下端穿过所述限位孔(6)。

4.根据权利要求3所述的基于多触点的水射流定位装置,其特征在于:所述水导激光加工模块(4)偏转运动范围为±10°。

5.根据权利要求1所述的基于多触点的水射流定位装置,其特征在于:所述射流孔(9)的X向两侧分别设有第一感应片(101)和第二感应片(102),所述射流孔(9)的Y向两侧分别设有第三感应片(103)和第四感应片(104)。

6.一种根据权利要求5所述的基于多触点的水射流定位装置的定位方法,其特征在于:包括如下步骤:

步骤一:水导激光加工模块(4)与感应片初步定位;

步骤二:确定水射流(8)沿X方向的倾转角度;

步骤三:检测控制系统控制相应的微调元件(5)升降调整使水导激光加工模块(4)偏转并消除水射流(8)沿X方向的倾转角度;

步骤四:确定水射流(8)沿X向的补偿差值,然后运动底座(7)沿X向移动对水射流(8)位置坐标进行X向补偿;

步骤五:确定水射流(8)沿Y方向的倾转角度;

步骤六:检测控制系统控制相应的微调元件(5)升降调整使水导激光加工模块(4)偏转并消除水射流(8)沿Y方向的倾转角度;

步骤七:确定水射流(8)沿Y向的补偿差值,然后运动底座(7)沿Y向移动对水射流(8)位置坐标进行Y向补偿。

步骤八:水导激光加工模块(4)与运动底座(7)之间的相对位置锁定,可伸缩底座(3)收回。

7.根据权利要求6所述的基于多触点的水射流定位装置的定位方法,其特征在于:步骤二中,运动底座(7)先沿X向移动使水射流(8)与第一感应片(101)接触并使对应的力传感器(2)发出信号,检测控制系统记录此时运动底座(7)位置坐标X1,然后运动底座(7)沿Z向向上移动距离Z1,然后运动底座(7)再次沿X向移动使水射流(8)与第一感应片(101)再次相交并使对应的力传感器(2)发出信号,检测控制系统记录此时运动底座(7)位置坐标X2,然后检测控制系统根据位置坐标X1、X2以及距离Z1计算水射流(8)沿X方向的倾转角度。

8.根据权利要求6所述的基于多触点的水射流定位装置的定位方法,其特征在于:步骤四中,运动底座(7)沿X向移动使水射流(8)先与第一感应片(101)接触并使对应的力传感器(2)发出信号,检测控制系统记录此时运动底座(7)位置坐标X3,然后运动底座(7)沿X向反向移动使水射流(8)与另一侧的第二感应片(102)接触并使对应的力传感器(2)发出信号,检测控制系统记录此时运动底座(7)位置坐标X4,然后检测控制系统比较X3、X4的位置差值与第一感应片(101)和第二感应片(102)之间理论距离并标定水射流(8)沿X向的直径D,并计算(X3+X4)/2与射流孔(9)中心坐标的沿X向差值,然后运动底座(7)沿X向移动对水射流(8)位置坐标进行补偿。

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