[发明专利]清洁系统、控制方法、计算机设备及计算机可读存储介质

说明书

本发明涉及清洁电器领域，具体公开了一种清洁系统、控制方法、计算机设备及计算机可读存储介质，包括以下步骤：控制清洁设备上的拖擦件对地面进行拖擦；确定所述拖擦件满足预设清洗条件，控制所述清洁设备移动至基站的预设区域；通过所述基站的拖擦件清洗部对所述拖擦件进行清洗。在拖擦件满足预设清洗条件，控制清洁设备自动移动到基站进行清洗，实现了拖擦件的自动清洗，提高了拖擦件的清洗效率，避免拖擦件不干净造成的二次污染。

技术领域

本发明涉及清洁电器领域，具体公开了一种清洁系统、控制方法、计算机设备及计算机可读存储介质。

背景技术

目前扫拖一体机器人通常是水箱底部贴上抹布，靠压力进行拖地清洁，不具备自动清洗抹布的功能，导致无法有效去除顽固污渍，极易造成二次污染。

发明内容

本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的上述技术问题。为此，本发明提出一种清洁系统、控制方法、计算机设备及计算机可读存储介质，解决上述至少一个技术问题。

为了实现上述目的，本发明第一方面提供了一种清洁系统的控制方法，包括以下步骤：

控制清洁设备上的拖擦件对地面进行拖擦；

确定所述拖擦件满足预设清洗条件，控制所述清洁设备移动至基站的预设区域；

通过所述基站的拖擦件清洗部对所述拖擦件进行清洗。

本发明第二方面提供了一种清洁系统，其特征在于，包括清洁设备以及基站，所述清洁设备上具有拖擦件、行走组件以及第一控制系统，所述基站上具有拖擦件清洗部以及第二控制系统，其中，

所述拖擦件用于对地面进行拖擦；

所述行走组件用于驱动所述清洁设备移动至所述基站的预设区域；

所述拖擦件清洗部用于对所述拖擦件进行清洗；

所述第一控制系统用于控制所述拖擦件对地面进行拖擦，确定所述拖擦件满足预设清洗条件，控制所述清洁设备移动至基站的预设区域；

所述第二控制系统用于控制所述拖擦件清洗部对所述拖擦件进行清洗。

本发明第三方面提供了一种计算机设备，包括存储器、处理器以及存储在所述存储器上并能够在所述处理器上运行的计算机程序，所述处理器执行所述计算机程序时实现如上所述的控制方法。

本发明第四方面提供了一种计算器可读存储介质，其上存储有计算机程序，其特征在于，所述计算机程序被处理器执行时实现如上所述的控制方法。

另外，根据本发明上述清洁系统的控制方法还可以具有如下附加的技术特征：

根据本发明的一些实施例，确定所述拖擦件满足预设清洗条件，控制所述清洁设备移动至基站的预设区域，包括：

确定所述拖擦件完成目标区域的拖擦，控制所述清洁设备移动至基站的预设区域。

根据本发明的一些实施例，通过所述基站的拖擦件清洗部对所述拖擦件进行清洗之后，还包括：

确定所述拖擦件完成所有目标区域的拖擦，控制所述清洁设备的滚刷下降并移动至所述基站的预设区域，通过所述基站对所述清洁设备进行充电。

根据本发明的一些实施例，通过所述基站的拖擦件清洗部对所述拖擦件进行清洗之后，还包括：

确定所述基站对所述拖擦件完成清洗，控制所述基站上的抽吸装置将污水抽入所述基站的污水箱。

根据本发明的一些实施例，确定所述拖擦件完成目标区域的拖擦，控制所述清洁设备移动至基站的预设区域之后，还包括：