[发明专利]一种足浴器的清洗机构及足浴器

说明书

本发明公开了一种足浴器的清洗机构，涉及足浴桶排水装置，包括盆体底部的第一腔体、第二腔体，腔体对应的底平面为第一平面、第二平面，两腔体底面平行且两底面设置坡度引流，第二腔体设置引流锥面，第二平面最低处设置排水口。清洗机构还包括盆体后侧外壁上固定的奶嘴三通，该奶嘴三通与外部注水装置构成快速、可拆卸连接。盆体顶部设置可前后移动的活动防尘盖，活动防尘盖下方安装有三叉旋转喷头，在盆体后侧空间安装有脉冲电磁铁水阀⑴和水阀⑵，在控制该两个水阀开、关过程中完成对盆体周壁及第二腔体清洗，清洗水被引流到排水口。盆体后侧空间安装可充电电池组，该电池组为排水泵、霍尔水流传感器、脉冲电磁铁水阀⑴和水阀⑵提供工作电源。

技术领域

本发明涉及足浴器技术领域，尤其涉及一种足浴器的清洗机构及足浴器。

背景技术

由于足浴器的内部较为复杂，零部件众多，通常有若干腔体，底平面凹凹凸凸且排水口还不在最低位，而使用波纹软管作为排水管，当波纹管被收纳时，管内螺纹糟的残留水又重回到足浴器内。

虽然人力翻转足浴器能排干净残留水，但对桶内凹凸不平的结构及波纹管內日积月累所遗留的污垢是无法去除的。污垢滋生细菌，令后续使用发生感染，而足浴器的足部使用温度范围又促使细菌繁殖。

上述内容仅用于辅助理解本发明的技术方案。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种不影响足浴器的使用功能、且具有清洗机构的足浴器。

为实现上述目的，本发明提供了一种足浴器的清洗机构，涉及到足浴桶的残留水排水装置，包括盆体及底部的凹腔。所述盆体将被分为第一腔体及第二腔体，对应的底平面为第一平面、第二平面，所述第一平面与所述第二平面底面平行并形成从后侧至前侧高度依次降低的斜面，在第二平面最低处设置有排水口，实现足浴器坡度引流。

所述的第二腔体对应所述的第二平面前端面为外侧到中间高度逐渐降低的弧形面或斜面，即引流锥面。所述的排水孔位于所述的引流锥面的中心位置，由于存在高度差，所述的引流锥面的两侧水会向中间挤压，从而加快排水速度。所有足浴水，包括清洗水均被引流到排水口经排水三通从带阀接头排出。

优选的，足浴器的清洗机构还包括盆体后侧外壁上固定安装的奶嘴三通，与所述奶嘴三通相配的快速接头构成可拆卸连接。所述的快速接头与球阀接头、PVC软管等组成外部注水装置。所述的外部注水装置另一端连接自来水，通过设置所述的外部注水装置为足浴桶清洗提供水源及使用足浴桶前注水。

优选的，所述的奶嘴三通岀水口连接脉冲电磁铁水阀(1)进水口，所述的脉冲电磁铁水阀(1) 岀水口连接水管，通过所述的水管向三叉旋转喷头供水。控制所述的脉冲电磁铁水阀(1)的开、关，即控制所述的三叉旋转喷头对所述的盆体周壁清洗。

优选的，所述的水管密封首先由支架与弹簧座胶结固定，所述的弹簧座内活动安装密封橡胶圈、垫片、并由弹簧压紧，所述的弹簧座与闷盖螺纹固定连接。当防尘盖移动吋，所述的弹簧的弹力克服所述水管对所述密封橡胶圈的摩擦力，在所述的弹簧与水压共同作用下达到所述的水管在清洗过程中密封要求。

优选的，足浴器的清洗机构还包括设置在盆体顶部可前、后移动的活动防尘盖，所述的活动防尘盖下方固定安装三叉旋转喷头，所述三叉旋转喷头的喷水口朝向所述盆体的侧壁，当所述的水管向三叉旋转喷头供水时，在水力作用下所述的三叉旋转喷头自动旋转喷洒，对所述的盆体周壁进行清洗。

优选的，所述的活动防尘盖在桶体上护框及所述的活动防尘盖的导向键、糟相互配合作用下，能沿中心位置作前、后移动，当所述的三叉旋转喷头移动到第一腔体前、后中心位置吋，限位杆限制所述的活动防尘盖继续向前移动，保证所述的三叉旋转喷头将净水均匀喷洒所述的盆体周壁。