[发明专利]用于等离子体羽流的过滤器

权利要求书

1.一种用于从等离子体羽流中过滤颗粒的过滤器，所述过滤器包括：

-壳体，所述壳体具有两个穿透开口，所述穿透开口布置在壳体壁中，并形成用于使至少一部分等离子体羽流穿过壳体的穿透槽道，所述穿透槽道从壳体的一侧延伸至壳体的相对侧；

-至少一个第一叶片，所述第一叶片布置在离旋转轴线一定距离处且可绕所述旋转轴线旋转，所述旋转轴线与穿透槽道的中心线平行且间隔开，其中，所述至少一个第一叶片的通路与穿透槽道相交，所述至少一个第一叶片具有用于与等离子体羽流接触的接触表面，所述接触表面面向旋转方向；

其特征在于，

所述过滤器还包括排出槽道，所述排出槽道与布置在壳体壁中的排出开口连接，其中，与穿透槽道的中心线和从旋转轴线延伸的径向线都垂直地延伸的线延伸穿过排出开口，所述径向线延伸通过穿透槽道的中心线和所述至少一个第一叶片的通路。

2.根据权利要求1所述的过滤器，其中：接触表面的径向横截面的弦线与旋转轴线形成的角度大于0°，优选是大于15°。

3.根据权利要求1或2所述的过滤器，其中：接触表面的轴向横截面的弦线与从旋转轴线延伸穿过接触表面的轴向横截面的内边缘的径向线形成的角度大于0°，优选是大于15°。

4.根据前述任意一项权利要求所述的过滤器，其中：接触表面是面向所述至少一个第一叶片的旋转方向的凹形形状表面。

5.根据前述任意一项权利要求所述的过滤器，还包括：盘，所述盘可旋转地布置在壳体中，其中，盘的旋转轴线与所述至少一个第一叶片的旋转轴线重合，至少一个穿透开口在离旋转轴线一距离处布置在盘中，所述距离对应于穿透槽道的中心线至旋转轴线的距离，所述至少一个第一叶片布置在盘的顶部且邻近所述盘中的至少一个穿透开口，并当沿盘的旋转方向看时尾随所述盘中的至少一个穿透开口。

6.根据权利要求5所述的过滤器，其中：圆柱形壁布置在盘上，并与旋转轴线同心，所述至少一个第一叶片与圆柱形壁的外部连接。

7.根据前述任意一项权利要求所述的过滤器，还包括：第二叶片，所述第二叶片布置成可绕旋转轴线旋转，并尾随所述至少一个第一叶片中的每一个。

8.根据权利要求7所述的过滤器，其中：所述至少一个第一叶片的纵向轴线和从旋转轴线延伸至所述至少一个第一叶片的近端的径向线之间的角度小于尾随相应至少一个第一叶片的第二叶片的纵向轴线和从旋转轴线延伸至所述第二叶片的近端的径向线之间的角度。

9.根据前述任意一项权利要求所述的过滤器，其中：多个辅助叶片布置在离旋转轴线一距离处并可绕所述旋转轴线旋转，所述多个辅助叶片沿通路分布在离所述至少一个第一叶片一距离处。

10.根据权利要求9所述的过滤器，还包括：辅助排出槽道，所述辅助排出槽道与布置在壳体壁中的辅助排出开口连接；以及泵部件，用于产生旋转轴线和辅助排出槽道之间的压力差。