[发明专利]一种金相法显示铝硅涂层中富硅相立体结构的方法有效

专利信息
申请号: 202110192735.9 申请日: 2021-02-20
公开(公告)号: CN112945688B 公开(公告)日: 2022-08-09
发明(设计)人: 魏焕君;邝霜;何先勇;赵江林;贾慧淑;孙晓梅;崔丽丽;唐学斌;尹芳 申请(专利权)人: 唐山钢铁集团有限责任公司;河钢股份有限公司唐山分公司
主分类号: G01N1/32 分类号: G01N1/32;G01N21/84
代理公司: 石家庄冀科专利商标事务所有限公司 13108 代理人: 曹淑敏
地址: 063000 *** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 一种 金相 显示 涂层 中富硅相 立体 结构 方法
【权利要求书】:

1.一种金相法显示铝硅涂层中富硅相立体结构的方法,其特征在于:所述方法包括制样、化学腐蚀和显微镜观察,具体为:

(1)制样:取铝硅涂层钢板,切取一部分作为样品,对样品依次进行镶嵌、抛光处理;

(2)化学腐蚀:将步骤(1)制备的试样放进腐蚀液中进行化学腐蚀,所述腐蚀液由盐酸水溶液和氯化钠水溶液配制而成;

(3)显微镜观察:化学腐蚀完成后,将试样冲洗干净、吹干,用ZISS金相显微镜进行观察;

步骤(2)所述盐酸水溶液中盐酸的体积浓度为10-12%;

步骤(2)所述氯化钠水溶液中氯化钠的质量浓度为5%-8%;

步骤(2)所述腐蚀液由盐酸水溶液和氯化钠水溶液按体积比1:1配制而成;

步骤(2)所述化学腐蚀的腐蚀时间为10-20s。

2.根据权利要求1所述的一种金相法显示铝硅涂层中富硅相立体结构的方法,其特征在于:步骤(1)所述镶嵌的具体操作为:将样品涂层表面水平放入镶嵌机进行镶嵌,镶嵌后的试样应保证涂层表面完整的显露。

3.根据权利要求1所述的一种金相法显示铝硅涂层中富硅相立体结构的方法,其特征在于:步骤(1)所述抛光处理的具体操作为:向抛光布上依次均匀喷洒水和高效金相抛光剂,然后在抛光机转速为300-600转/分下进行抛光处理。

4.根据权利要求3所述的一种金相法显示铝硅涂层中富硅相立体结构的方法,其特征在于:步骤(1)所述抛光布为200mm、250mm的压敏胶呢绒抛光布。

5.根据权利要求3所述的一种金相法显示铝硅涂层中富硅相立体结构的方法,其特征在于:步骤(1)所述高效金相抛光剂的粒度为0.5-2.5μm。

6.根据权利要求3-5任一项所述的一种金相法显示铝硅涂层中富硅相立体结构的方法,其特征在于:步骤(1)所述抛光处理的抛光时间为≤30s。

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