[发明专利]一种抗UV、抗菌消光锦纶切片及其制备方法有效
申请号: | 202110193445.6 | 申请日: | 2021-02-20 |
公开(公告)号: | CN112812554B | 公开(公告)日: | 2023-06-09 |
发明(设计)人: | 黄文国;陈敏;夏湘 | 申请(专利权)人: | 福建省力恒锦纶实业有限公司 |
主分类号: | C08L77/02 | 分类号: | C08L77/02;C08G69/14;C08K3/22;D01F6/90;D01F1/10 |
代理公司: | 福州市博深专利事务所(普通合伙) 35214 | 代理人: | 段惠存 |
地址: | 350206 福建省福*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 uv 抗菌 锦纶 切片 及其 制备 方法 | ||
本发明公开了一种抗UV、抗菌消光锦纶切片及其制备方法,属于纺织技术领域,该抗UV、抗菌消光锦纶切片包括二氧化钛消光剂、纳米氧化锌复合粒子和己内酰胺;纳米氧化锌复合粒子包括纳米氧化锌粒子,纳米氧化锌粒子的外围由有机硅TEOS‑28包覆。该制备方法采用二氧化钛消光剂、纳米氧化锌复合粒子制成调配液,再与酸、胺和己内酰胺混合,混合后经预聚、终聚、过滤、切粒、萃取、干燥和冷却,得到成品。该制备方法成本投入低,方法易控,所用原料不易团聚易分散,能充分发挥其效果;该抗UV、抗菌消光锦纶切片用于制备纤维,或进一步用于织布,可赋予纤维和布料良好的抗UV、抗菌和消光性能。
技术领域
本发明属于纺织技术领域,具体涉及一种抗UV、抗菌消光锦纶切片及其制备方法。
背景技术
伴随着全球经济的快速发展,锦纶切片行业的技术和产品质量不断提升。锦纶切片已经成为合成化工材料行业的一个重要分支,其应用领域极其广泛。随着人们对功能化的化纤产品的迫切需求,使得该领域内的各大企业对此类产品的研究和开发日趋活跃。现有消光切片制备的化纤产品,无法满足人们的日常需求,使用者除了需要产品具备光亮度低的消光功能,还要兼具抗紫外线、抗菌功能,期望有新的产品出现。为了提升切片的消光性,常在切片制备过程中添加二氧化钛,二氧化钛具有良好的散射效果,可将可见光折射、吸收,进而达到良好的消光效果、为了提升切片的抗菌和抗UV效果,常在切片制备过程中添加氧化锌,氧化锌在阳光下尤其在紫外光照射下,能够自行分解出自由电子,留下带正电的空穴,空穴可激活氧变成活性氧,活性氧能与多种微生物发生氧化反应,从而起到杀菌的作用,常用的纳米氧化锌还具有很强的吸收紫外线的功能和散射能力。但是二氧化钛和氧化锌在使用过程中,都存在易团聚的问题,在下游纺丝过程中容易造成纤维强度下降,纤维表面不光滑,易发生毛丝,甚至出现断裂的问题。
发明内容
为了克服上述现有技术的缺陷,本发明所要解决的技术问题是:如何提供一种具有抗UV、抗菌以及消光性能,且纺丝中不易造成纤维表面不光滑、毛丝和断裂的锦纶切片。
为了解决上述技术问题,本发明采用的技术方案为:抗UV、抗菌消光锦纶切片,按重量百分比计,包括1.58-1.75%的二氧化钛-纳米氧化锌复合粒子调配液、0.26-0.4%的酸、0.1-0.22%的胺和余量的己内酰胺;
按重量百分比计,所述二氧化钛-纳米氧化锌复合粒子调配液包括21.5-22.2%的二氧化钛消光剂和0.08-0.15%的纳米氧化锌复合粒子;
所述纳米氧化锌复合粒子包括纳米氧化锌粒子以及包覆在纳米氧化锌粒子外围的有机硅TEOS-28;
所述二氧化钛消光剂包括二氧化钛粒子以及包覆在二氧化钛粒子外的复合层,所述复合层由内到外依次包括无机硅化合物层、金属化合物层和有机聚合物包覆层。
本发明采用的另一种技术方案为:抗UV、抗菌消光锦纶切片的制备方法,包括以下步骤:
步骤1、二氧化钛-纳米氧化锌复合粒子调配液的配置;
步骤2、将二氧化钛-纳米氧化锌复合粒子调配液、酸、胺和己内酰胺混合,混合均匀后进入预聚塔反应,得到预聚体;
步骤3、步骤2所得预聚体加入终聚塔反应,所得熔体过滤后进行切粒,得到锦纶湿切片,所得锦纶湿切片依次进行萃取、干燥和冷却,得到抗UV、抗菌消光锦纶切片。
本发明的有益效果在于:本发明提供的抗UV、抗菌消光锦纶切片,将二氧化钛消光剂和纳米氧化锌粒子配合使用,二氧化钛和纳米氧化锌粒子均经过特殊的包覆处理,相较于直接添加具有良好的分散性,颗粒之间不易发生团聚,二氧化钛消光剂和纳米氧化锌粒子的效果可充分发挥,为下游生产的纤维和布料提供了良好的遮光性、抗菌性和抗紫外性;本发明提供的抗UV、抗菌消光锦纶切片的制备方法,易于操作推广,条件易控,且相较于传统将助剂与部分锦纶熔融先制成母粒再进行切片制备的方法,工序更为简单,设备投入成本更低,适合产业化生产。
附图说明
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