[发明专利]OPC修正方法

权利要求书

1.一种OPC修正方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤一、建立多个精度不同的OPC模型；

步骤二、提供需要做OPC修正的目标版图，所述目标版图的图形处于初始态；

步骤三、选择精度最低的OPC模型对所述目标版图进行多次OPC运算并形成精度最低的OPC模型对应的OPC中间层；

步骤四、选择精度更高一层的OPC模型对前一层精度的OPC模型形成的OPC中间层进行多次OPC运算并形成所选择精度的OPC模型对应的OPC中间层；

步骤五、重复步骤四直至形成精度次高的OPC模型对应的OPC中间层；

步骤六、选择精度最高的OPC模型对精度次高的OPC模型对应的OPC中间层进行多次OPC运算形成最终OPC结果。

2.如权利要求1所述的OPC修正方法，其特征在于：步骤一中包括2个精度的OPC模型，步骤四和步骤五省略。

3.如权利要求1或2的OPC修正方法，其特征在于：精度最高的OPC模型为按照量产要求建立的符合规格的OPC模型。

4.如权利要求3的OPC修正方法，其特征在于：精度次高以下的OPC模型为在精度最高的OPC模型的基础上进行模型参数简化或者模型计算范围减少生成的OPC模型；精度越小的OPC模型的运算速度越快。

5.如权利要求4的OPC修正方法，其特征在于：图形周期及尺寸在接近最小设计图形周期以及尺寸的1-2倍的范围内，采用精度次高以下的OPC模型进行OPC运算的模拟趋势和硅衬底上的实际量测数据相符。

6.如权利要求1或2的OPC修正方法，其特征在于：步骤三、步骤四和步骤五中各精度的OPC模型对应的OPC运算次数的最优解为，在得到符合要求的所述最终OPC结果的同时，节省的总OPC运算时间最多。

7.如权利要求6的OPC修正方法，其特征在于：步骤六中，精度最高的OPC模型对应的OPC运算次数为1到20次，精度最高的OPC模型对应的OPC运算次数越少节省的总OPC运算时间越多。

8.如权利要求6的OPC修正方法，其特征在于：步骤一中包括2个精度的OPC模型时，步骤三中精度最低的OPC模型对应的OPC运算次数为1到15次，精度最低的OPC模型对应的OPC运算次数的最优解从1到15次中选取。

9.如权利要求1的OPC修正方法，其特征在于：步骤六得到的最终OPC结果符合量产的OPC精度要求。