[发明专利]一种真空离心式闪烁晶体阵列制作方法有效

专利信息
申请号: 202110197080.4 申请日: 2021-02-22
公开(公告)号: CN112782746B 公开(公告)日: 2022-09-20
发明(设计)人: 董鸿林;王强;王璐;丁雨憧;方承丽 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第二十六研究所
主分类号: G01T1/202 分类号: G01T1/202
代理公司: 重庆博凯知识产权代理有限公司 50212 代理人: 李海华
地址: 400060 *** 国省代码: 重庆;50
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 真空 离心 闪烁 晶体 阵列 制作方法
【说明书】:

发明公开了一种真空离心式闪烁晶体阵列制作方法,采用装夹夹具对多根闪烁晶条进行装夹定位,然后向固化容器的初步固化槽内倒入混合胶液,多根阵列分布的闪烁晶条下端与槽内的混合胶液接触,然后与固化容器一同进行真空干燥,将固化容器、装夹夹具与多根阵列分布的闪烁晶条相互分离,得到底部具有胶层的初步闪烁晶体阵列;完全固化槽内倒满混合胶液,将离心容器与初步闪烁晶体阵列一同真空混料设备中真空离心,将真空离心后的离心容器与初步闪烁晶体阵列一同进行真空干燥,将离心容器与初步闪烁晶体阵列分离,得到闪烁晶体阵列。本发明能够提高闪烁晶体阵列中反射层的尺寸一致性,并排除反射层内的空气,提高闪烁晶体阵列的反射性能。

技术领域

本发明涉及闪烁晶体加工技术领域,具体涉及一种真空离心式闪烁晶体阵列制作方法。

背景技术

正电子发射断层成像技术(Positron emission tomography,PET)作为一种先进的核医学成像技术,在获取人体或动物的某些器官或病灶的功能信息方面有着独特的优点,被称为目前已知的最好的诊断技术。闪烁晶条是PET系统探测器的核心组成单元,其性能在很大程度上决定了PET的性能。闪烁晶条在使用时通常采用闪烁晶条阵列的方式,而闪烁晶体阵应用于正电子发射型计算机断层显像电子计算机X射线断层扫描中,常用的闪烁晶体探测器模块是由一些相同大小的单根闪烁晶体通过胶粘结形成的闪烁晶体阵列构,每根晶体之间夹有反射层以实现分光效果。

反射层材料通常有硫酸钡粉末加胶水或者二氧化钛粉末加胶水,固化后形成反射层。为获得优异的阵列性能,通常粉末与胶水混合物粘度较高流动性差难以实现自流式灌胶封装。反射层的厚度尺寸均一性,以及反射层内部细小空气对闪烁晶体阵列的性能影响较大。目前闪烁晶体阵列的主要拼接方式为两根晶条1×1拼接,然后由两根1×1拼接为2×2.....以此类推叠加。此拼接方法对每次拼接要求较高,而且拼接尺寸的误差精度较难控制,而闪烁晶体偏倾斜或者不平行都会影响探测器的定位精度,从而造成图像模糊,同时常规拼接方法中难以解决反射层中存在空气的问题,同样也影响闪烁晶体阵列的性能。

发明内容

针对上述现有技术的不足,本发明所要解决的技术问题是:提供一种真空离心式闪烁晶体阵列制作方法,该方法能够避免闪烁晶体阵列制作方法中产生晶条倾斜或不平行的现象,提高闪烁晶体阵列中反射层的尺寸一致性,并排除反射层内的空气,提高闪烁晶体阵列的反射性能。

为了解决上述技术问题,本发明采用了如下的技术方案:

一种真空离心式闪烁晶体阵列制作方法,包括如下步骤:A、先获取一固化容器和离心容器,所述固化容器上部具有初步固化槽,所述离心容器上部具有完全固化槽,所述初步固化槽和完全固化槽的开口尺寸相等,并与闪烁晶体阵列的外围尺寸相匹配;B、采用装夹夹具对多根闪烁晶条进行装夹定位得到多根阵列分布的闪烁晶条,多根阵列分布的闪烁晶条的下端均齐平且均凸出于装夹夹具外,然后向固化容器的初步固化槽内倒入1-2mm深度的混合胶液,将多根阵列分布的闪烁晶条与装夹夹具一起放入初步固化槽内,让多根阵列分布的闪烁晶条下端与槽内的混合胶液接触,然后与固化容器一同进行真空干燥,以对多根阵列分布的闪烁晶条进行初步定型;C、固化容器内的混合胶液固化后,将固化容器、装夹夹具与多根阵列分布的闪烁晶条相互分离,得到闪烁晶条底部具有固化胶层的初步闪烁晶体阵列;D、将初步闪烁晶体阵列放入离心容器中的完全固化槽内,完全固化槽的槽深与初步闪烁晶体阵列的高度相匹配,然后向完全固化槽内倒满混合胶液,然后将离心容器与初步闪烁晶体阵列一同放入真空混料设备中真空离心,使完全固化槽内的混合胶液充分混合均匀;E、将真空离心后的离心容器与初步闪烁晶体阵列一同进行真空干燥,让完全固化槽内的混合胶液固化,离心容器内的混合胶液固化后,将离心容器与初步闪烁晶体阵列分离,得到闪烁晶体阵列。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国电子科技集团公司第二十六研究所,未经中国电子科技集团公司第二十六研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110197080.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top