[发明专利]一种大小连续可调的铜纳米球粒制备方法在审
申请号: | 202110197538.6 | 申请日: | 2021-02-22 |
公开(公告)号: | CN113020612A | 公开(公告)日: | 2021-06-25 |
发明(设计)人: | 修慧欣;张洋 | 申请(专利权)人: | 上海理工大学 |
主分类号: | B22F9/14 | 分类号: | B22F9/14;B22F1/00;B82Y15/00;B82Y30/00;B82Y40/00 |
代理公司: | 上海智力专利商标事务所(普通合伙) 31105 | 代理人: | 周涛 |
地址: | 200093 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 大小 连续 可调 纳米 制备 方法 | ||
本发明公开一种大小连续可调的金属纳米球粒制备方法,通过控制不同的电压和离子枪的轰击角度,可以获得粒径大小不同的金属纳米球颗粒,并可对纳米球粒径大小进行精确的控制,方便获取所需的颗粒尺寸,操作简单,在拉曼增强,太阳能电池和红外波段的生物检测等领域有广泛的应用,通过对电压的控制,获得的金属纳米颗粒所形成的薄膜具有强附着力、高速、常温、低损伤等特点,同时基底材料不受方法的限制,陶瓷、半导体、玻璃、晶体等材料均可通过本方法实现,应用范围十分广泛。
技术领域
本发明涉及到金属材料领域,具体涉及一种大小连续可调的金属纳米球粒制备方法。
背景技术
传统制备金属纳米颗粒的物理方法包括:物理粉碎法,机械颗粒研磨法,化学方法包括:化学还原法、水热合成法、溶胶凝胶法、电化学还原法、光化学还原法等。但是这些方法的制备过程十分繁琐,耗时多,实验条件要求苛刻等等,最重要的是不能对颗粒粒径大小进行连续可调的控制,不能很好的满足需求。
发明内容
为了解决上述的制备过程繁琐,耗时多,不能对颗粒粒径大小进行连续可调的控制的问题,本发明提供一种大小连续可调的金属纳米球粒制备方法,不仅可制备大小连续可调的金属纳米球粒,制备过程简单,耗时短,同时对纳米球粒的大小可精确连续可调的控制。
为实现上述发明目的,本发明提供以下技术方案:
一种大小连续可调的金属纳米球粒制备方法,在室温下与真空室内进行,该方法包括以下步骤:
⑴.将清洗后的基片通过AB胶粘在金属环上装在基底夹具上,放于离子减薄仪真空室中;
⑵.将所述真空室抽真空,所述真空室的真空度达到104Pa以上,再向所述真空室内通入工作气体,使所述真空室内的气压达到工作气压,所述工作气压为0.8Pa;
⑶.待基底夹具开始旋转,调整工作电压、离子枪轰击角度和工作时间,得到粒径大小连续可调的金属纳米球粒,
其中,所述工作电压为0.1KeV-6KeV,所述轰击角度为0-10°,所述工作时间为20-30min。
在本发明提供的大小连续可调的金属纳米球粒制备方法中,还可以具有这样的特征:其中,基底的材料可以为陶瓷、半导体、玻璃、晶体中的任意一种。
在本发明提供的大小连续可调的金属纳米球粒制备方法中,还可以具有这样的特征:其中,粘有基片的金属环放置于真空室时,需将金属环面朝上放置。
在本发明提供的大小连续可调的金属纳米球粒制备方法中,还可以具有这样的特征:其中,工作气体为氩气。
在本发明提供的大小连续可调的铜纳米球粒制备方法中,还可以具有这样的特征:其中,所述金属纳米球粒纯度在99.99%以上,所述金属包括铜和金。
在本发明提供的大小连续可调的金属纳米球粒制备方法中,还可以具有这样的特征:其中,所述工作电压为5KeV。
在本发明提供的大小连续可调的金属纳米球粒制备方法中,还可以具有这样的特征:其中,所述轰击角度为6.5°。
根据本发明所涉及的大小连续可调的金属纳米球粒制备方法,因为采用真空离子束轰击的物理方法,通过一定角度的离子束轰击,在基底上形成纳米金属颗粒的制备方法,所以,本发明的大小连续可调的金属纳米球粒制备方法具有以下特点:⑴.制备工艺简单,操作过程简单,通过对电压和离子枪的轰击角度的控制,可获得强附着力、低损伤等特点的大小连续可调的金属纳米颗粒的薄膜;⑵.通过对电压和离子枪的轰击角度的控制,可获得大小连续可调的金属纳米颗粒,对真空室中的温度没有特殊要求;⑶.对颗粒的大小可以很好的精确控制。
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