[发明专利]等离子体处理装置、基板处理装置以及滤波器装置在审
申请号: | 202110199431.5 | 申请日: | 2018-06-21 |
公开(公告)号: | CN113013014A | 公开(公告)日: | 2021-06-22 |
发明(设计)人: | 林大辅;金子健吾;小泉克之 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;H01J37/24 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 等离子体 处理 装置 以及 滤波器 | ||
本发明提供一种等离子体处理装置、基板处理装置以及滤波器装置,能够减少针对噪声的每个频率重新制作滤波器的功夫。滤波器(102(1))具有空芯线圈(104(1))、外导体以及可动件(120(1)~120(4))。空芯线圈具有固定的口径和固定的线圈长度。外导体为筒形,收容或包围空芯线圈,与空芯线圈组合而形成以多个频率进行并联谐振的分布常数线路。可动件配置于一个或多个有效区间内,用于变更空芯线圈的各个卷线间隙,所述有效区间是在滤波器的频率‑阻抗特性中使特定的一个或多个并联谐振频率向高频区域侧或低频区域侧产生移位的区间。
本申请是申请日为2018年6月21日、申请号为201810645011.3、发明名称为“等离子体处理装置”的申请的分案申请。
技术领域
本发明的各个侧面和实施方式涉及一种等离子体处理装置、基板处理装置以及滤波器装置。
背景技术
以往以来,已知一种使用等离子体来对半导体晶圆等被处理基板进行蚀刻等的等离子体处理的等离子体处理装置。这样的等离子体处理装置的用于载置被处理基板的载置台具有通过传热将被处理基板控制为规定温度的温度控制功能。作为该温度控制功能,大多使用在载置台组装通过通电而发热的发热体并控制发热体所产生的焦耳热的加热器方式。
然而,当等离子体处理装置采用加热器方式时,为了生成等离子体而从高频电源向载置台施加的高频的一部分作为噪声从发热体进入加热器供电线。
因此,本申请的申请人在专利文献1中提出一种在加热器供电线上设置用于减弱或阻止高频的噪声的滤波器的技术。该滤波器具有空芯线圈、收容或包围空芯线圈的筒形的外导体、以及向空芯线圈的各个卷线间隙选择性地插入的绝缘性的梳齿构件。在滤波器的空芯线圈存在有效区间,该有效区间是通过改变卷线间隙而在频率-阻抗特性中使特定的一个或多个并联谐振频率产生位移的区间。针对滤波器的空芯线圈,在有效区间向卷线间隙插入梳齿构件,以得到与作为切断对象的噪声的频率对应的并联谐振频率。
专利文献1:日本特开2015-173027公报
发明内容
然而,在等离子体处理装置中,噪声的频率因机型、向载置台施加的高频的频率等而不同。因此,在专利文献1的技术中,为了得到与各个噪声的频率分别对应的不同的并联谐振频率,需要重新制作卷线间隙的宽度不同的滤波器。
本发明的一个侧面所涉及的等离子体处理装置具备能够减少针对噪声的每个频率重新制作滤波器的功夫的滤波器。
在一个实施方式中,公开的滤波器装置具备:线圈,其被沿中心轴线进行了卷绕;多个可动件,针对所述线圈的卷线的各单匝线圈设置所述多个可动件,所述多个可动件能够在所述线圈的轴向上移动;以及外导体,其包围所述线圈和所述可动件。
在一个实施方式中,公开的滤波器装置是在等离子体处理装置中使用的滤波器装置,所述滤波器装置具备:线圈,其被沿轴向进行了卷绕,具有多个单匝线圈;多个可动件组,所述多个可动件组与所述线圈的所述多个单匝线圈的各单匝线圈对应,各可动件组包括多个可动件,所述多个可动件安装于所述线圈的对应的单匝线圈,能够分别独立地沿所述轴向移动;以及筒状导体,其包围所述线圈和所述多个可动件组。
在一个实施方式中,公开的基板处理装置具备:基板处理容器;电极,其配置于所述基板处理容器内;电源,其向所述电极供给电力;以及滤波器装置,其与所述电极及所述电源连接,其中,所述滤波器装置具备:线圈,其被沿中心轴线进行了卷绕;多个可动件,针对所述线圈的卷线的各单匝线圈设置所述多个可动件,所述多个可动件能够沿所述轴向移动;以及外导体,其包围所述线圈和所述可动件。
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