[发明专利]一种碳化硅单晶抛光液及其使用方法在审
| 申请号： | 202110199487.0 | 申请日： | 2021-02-23 |
| 公开（公告）号： | CN112920717A | 公开（公告）日： | 2021-06-08 |
| 发明（设计）人： | 姚恒;李光 | 申请（专利权）人： | 中山荣拓智能装备有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;B24B29/02 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人： | 伍传松 |
| 地址： | 528400 广东省中*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 碳化硅 抛光 及其 使用方法 | ||
1.一种碳化硅单晶抛光液，其特征在于：包括以下原料：过氧化氢、改性剂、磨料、分散剂、添加剂和pH调节剂；
其中，所述磨料由二氧化硅、氧化铝和金刚石微粉构成；
所述二氧化硅的粒径为10nm～30nm；
所述氧化铝的粒径为50nm～100nm；
所述金刚石微粉的粒径为小于0.25μm。
2.根据权利要求1所述的一种碳化硅单晶抛光液，其特征在于：所述助剂包括改性剂、分散剂、添加剂和pH调节剂。
3.根据权利要求2所述的一种碳化硅单晶抛光液，其特征在于：所述抛光液包括以下重量份数的原料：过氧化氢10份～20份、改性剂10份～20份、磨料30份～60份、分散剂5份～10份、添加剂1份～5份和pH调节剂1份～10份。
4.根据权利要求3所述的一种碳化硅单晶抛光液，其特征在于：所述抛光液的pH为7～9。
5.根据权利要求3所述的一种碳化硅单晶抛光液，其特征在于：所述氧化铝、二氧化硅和金刚石微粉的质量之比为1：1.5～2.5：2.5～3.5。
6.根据权利要求3所述的一种碳化硅单晶抛光液，其特征在于：所述改性剂包括氯酸盐、高碘酸盐和过硫酸盐中的至少一种；优选地，所述氯酸盐包括氯酸钾和氯酸钠中的至少一种；优选地，所述高碘酸盐包括高碘酸钾和高碘酸钠中的至少一种；优选地，所述过硫酸盐包括过硫酸钾、过硫酸铵和过硫酸钠中的至少一种。
7.根据权利要求3所述的一种碳化硅单晶抛光液，其特征在于：所述分散剂包括氟碳型表面活性剂；优选地，所述添加剂包括钾盐、钠盐和铯盐中的至少一种；优选地，所述钠盐包括氯化钠、硝酸钠和硫酸钠；优选地，所述钾盐包括氯化钾、硝酸钾和硫酸钾；优选地，所述铯盐包括氯化铯、硝酸铯和硫酸铯。
8.根据权利要求3所述的一种碳化硅单晶抛光液，其特征在于：所述pH调节剂包括有机碱；优选地，所述有机碱包括三乙醇胺、四甲基乙二胺和乙二胺中的至少一种。
9.一种碳化硅单晶的抛光方法，其特征在于：包括以下步骤：
S1、将抛光布置于抛光槽底部，绷紧后将抛光布边缘固定；
S2、将如权利要求1至8任一项所述的碳化硅单晶抛光液添加至抛光槽中；
S3、将端面固定有碳化硅单晶片的抛光盘垂直伸入到抛光槽中，所述碳化硅单晶片与所述抛光布贴合；
S4、控制抛光盘转速抛光，抛光完成后，洗涤，干燥。
10.根据权利要求9所述的一种碳化硅单晶的抛光方法，其特征在于：所述转速为60r/min～100r/min。
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