[发明专利]流体处理装置、分散液制造套件及分散液的制造方法在审

专利信息
申请号: 202110201305.9 申请日: 2021-02-23
公开(公告)号: CN113358454A 公开(公告)日: 2021-09-07
发明(设计)人: 铃木诚一郎 申请(专利权)人: 恩普乐股份有限公司
主分类号: G01N1/38 分类号: G01N1/38;G01N1/28;G01N35/10;G01N11/10
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 杨芳;臧建明
地址: 日本埼玉*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 流体 处理 装置 分散 制造 套件 方法
【权利要求书】:

1.一种流体处理装置,其特征在于,具有:

样本流路,用于样本的流动;

分散剂流路,用于分散剂的流动;

分散液生成部,与所述样本流路及所述分散剂流路连接,并用于用所述分散剂分离所述样本,来生成所述样本的液滴分散于所述分散剂中的分散液;以及

分散液流路,与所述分散液生成部连接,并用于所述分散液的流动,

在将所述分散液流路的内壁中的一部分相对于水的接触角设为X°,将在25℃下以落球式粘度计测定的所述样本的粘度设为Y mPa·s时,所述X和所述Y满足Y≤0.0436X-1.2563。

2.如权利要求1所述的流体处理装置,其中,还具有:

基板,具有样本流路用槽、分散剂流路用槽、分散液生成部用凹部和分散液流路用槽;以及

薄膜,覆盖所述基板,

被所述样本流路用槽和所述薄膜包围的区域是所述样本流路,

被所述分散剂流路用槽和所述薄膜包围的区域是所述分散剂流路,

被所述分散液生成部用凹部和所述薄膜包围的区域是所述分散液生成部,

被所述分散液流路用槽和所述薄膜包围的区域是所述分散液流路。

3.如权利要求2所述的流体处理装置,其中,

在将所述薄膜相对于水的接触角设为Xf°时,所述Xf和所述Y满足Y≤0.0436Xf-1.2563。

4.如权利要求2或3所述的流体处理装置,其中,

在将所述基板相对于水的接触角设为Xb°时,所述Xb和所述Y满足Y≤0.0436Xb-1.2563。

5.如权利要求2~4中任意一项所述的流体处理装置,其中,

在所述分散液流路用槽的一部分上还具有拒水层,

在将所述拒水层相对于水的接触角设为Xl°时,所述Xl和所述Y满足Y≤0.0436Xl-1.2563。

6.一种分散液制造套件,其特征在于,包含:

权利要求1~5中任意一项所述的流体处理装置;

样本,含有极性溶剂,并用于在所述流体处理装置中流动;以及

分散剂,含有非极性溶剂,并用于在所述流体处理装置中流动。

7.一种分散液的制造方法,其特征在于,包括以下工序:

使含有极性溶剂且在25℃下以落球式粘度计测定的粘度为1.5mPa·s~3.5mPa·s的样本在权利要求1~5中任意一项所述的流体处理装置的所述样本流路中流动的工序;以及

与使所述样本流动的工序大致同时地,使含有非极性溶剂的分散剂在所述流体处理装置的所述分散剂流路中流动的工序。

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