[发明专利]一种晶圆加工用自动卸料研磨机在审

专利信息
申请号: 202110201561.8 申请日: 2021-02-23
公开(公告)号: CN112959157A 公开(公告)日: 2021-06-15
发明(设计)人: 牟宗娟 申请(专利权)人: 牟宗娟
主分类号: B24B7/22 分类号: B24B7/22;B24B37/10;B24B37/34
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 200000 上海市浦东新区南汇新城镇海基*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 晶圆加 工用 自动 卸料 研磨机
【说明书】:

发明公开了一种晶圆加工用自动卸料研磨机,其结构包括机械架、旋转机构、固定台、控制面板,旋转机构上端嵌固在机械架中间下表面,旋转机构下端安装于固定台内部上端,控制面板下端左侧卡合在固定台右侧,受力机构在晶圆表面移动,对限位板下端的支撑球块产生低压力,对刮除结构研磨的阻挡力进行缓冲,避免阻挡力过大,对研磨的阻挡力进行缓冲,避免阻挡力过大产生的研磨不稳定的问题,从而在阻挡杆的阻挡下,避免研磨块产生偏移,同时弯曲的研磨块使研磨的阻力进行分散,在移动研磨时使研磨的阻力进受力均匀,防止出现阻挡力不稳定的情况,同时在的挤压下,研磨面积的减小使其能对晶圆中间进行研磨,避免晶圆中间部分与四周产生断层。

技术领域

本发明涉及晶圆光刻显影领域,具体涉及一种晶圆加工用自动卸料研磨机。

背景技术

晶圆是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶片,由于其形状为圆形,故称为晶圆,在硅晶片上可加工制作成各种电路元件结构,而成为有特定电性功能的集成电路产品,同时晶圆在加工过程使晶圆进行研磨,加强晶圆表面的光滑性,便于后续电路元件的加工。

但是晶圆进行固定旋转,利用研磨头对旋转的晶圆研磨,由于晶圆最中心的位置旋转速率过大,研磨过程中的晶圆中间位置不进行研磨,研磨头在晶圆边缘地带研磨,研磨头为一端较为尖锐的三角柱形状,研磨头研磨移动时贴合在晶圆表面的移动摩擦力阻力过大,使晶圆旋转受力出现较大的阻挡,从而容易出现研磨不稳定的问题,使晶圆研磨时出现断层现象。

发明内容

本发明通过如下的技术方案来实现:一种晶圆加工用自动卸料研磨机,其结构包括机械架、旋转机构、固定台、控制面板,所述旋转机构上端嵌固在机械架中间下表面,所述旋转机构下端安装于固定台内部上端,所述控制面板下端左侧卡合在固定台右侧,所述旋转机构设有固定柱、研磨结构、放置槽、支撑台,所述研磨结构上端嵌固在固定柱下端,所述放置槽贯穿于支撑台内部,所述固定柱与放置槽位于同一中心轴线上,所述放置槽下端安装于固定台内部上端,所述研磨结构为垂直状态,所述固定柱下端设有滑动轨道。

作为本发明进一步改进,所述研磨结构设有支撑球块、受力机构、限位板、移动杆,所述受力机构中间内侧上端贴合在支撑球块下端,所述支撑球块上端焊接在限位板中间下端,所述限位板上端安装于移动杆下端,所述移动杆上端嵌固在机械架中间下表面,所述限位板为铝合金材质,具有韧性强的特性,所述受力机构为弧形结构。

作为本发明进一步改进,所述受力机构设有弹簧杆、研磨板、受力板、压缩结构、固定块,所述弹簧杆左侧嵌固在固定块内部右侧,所述压缩结构卡合在受力板中间内部,所述受力板焊接在研磨板内侧右端,所述固定块安装于研磨板内部,所述研磨板贴合在支撑球块中间内侧左侧贴合在支撑球块下端,所述受力板为铝合金材质,为中间宽两边窄的形状,具有受力弯曲的效果。

作为本发明进一步改进,所述压缩结构设有固定轴、压缩环、刮除结构,所述压缩环贴合在固定轴外侧,所述刮除结构安装于压缩环外侧,所述固定轴与刮除结构位于同一中心轴线上,所述固定轴卡合在受力板内部,所述压缩环为橡胶材质,具有压缩力大的效果,所述固定轴为固定状态。

作为本发明进一步改进,所述刮除结构设有固定环、卡合块、弯曲结构,所述卡合块嵌固在固定环右侧,所述卡合块卡合在弯曲结构内侧,所述固定环内侧安装于压缩环外侧,所述弯曲结构为连续弯曲结构,具有减小研磨受力面积的效果。

作为本发明进一步改进,所述弯曲结构设有支撑球、刮除板、阻挡结构,所述阻挡结构嵌固在刮除板右侧,所述支撑球安装于刮除板内部,们所述刮除板左侧卡合在卡合块右侧,所述支撑球为橡胶材质,具有挤压力大的特性,所述阻挡结构为弧形均匀分布状态。

作为本发明进一步改进,所述阻挡结构设有研磨块、阻挡杆、连接板,所述研磨块下端焊接在弯曲结构上端,所述阻挡杆安装于研磨块下端,所述阻挡杆贴合在连接板上端,所述连接板下端嵌固在刮除板右侧,所述研磨块为连续弯曲结构,且研磨块左右两侧为弧形结构。

有益效果

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于牟宗娟,未经牟宗娟许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110201561.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top