[发明专利]利用四次光刻工艺制作四层铜结构液晶盒及其制备方法

权利要求书

1.利用四次光刻工艺制作四层铜结构液晶盒，其特征是其结构包括上玻璃基板（1）、框胶（2）、下玻璃基板（3）、下玻璃上铜层（4）、液晶相层 （5）、下配向膜（6）、下玻璃下铜层（7）、上玻璃上铜层 （8）、 上配向膜 （9）、 上玻璃下铜层 （10），所述上玻璃基板和下玻璃基板通过框胶固定成玻璃液晶盒，上玻璃基板上是上玻璃上铜层，上玻璃基板下是上玻璃下铜层，下玻璃基板上是下玻璃上铜层，下玻璃基板下是下玻璃下铜层，上玻璃下铜层和下玻璃上铜层分别涂布有上配向膜和下配向膜，所述上配向膜与下配向膜之间是液晶相层。

2.根据权利要求1所述的利用四次光刻工艺制作四层铜结构液晶盒，其特征是所述玻璃液晶盒的厚度为4.0 um。

3.如权利要求1所述的利用四次光刻工艺制作四层铜结构液晶盒的制备方法，其特征是利用四次光刻工艺分别对上基板玻璃的上表面铜层和下表面铜层，下基板玻璃的上表面铜层和下表面铜层进行刻蚀形成所设计的图案；在光刻其中一枚基板的其中一表面铜层时，需通过耐酸耐碱膜把另一面铜层进行保护后，方可刻蚀，这样依次进行四次曝光刻蚀形成四层铜层的玻璃基板；最后再通过带有铜层的玻璃基板组成液晶盒。

4.根据权利要求1所述的利用四次光刻工艺制作四层铜结构液晶盒的制备方法，其特征是所述的上玻璃上铜层与上玻璃下铜层利用在光罩上设计MARK进行套合刻蚀成所需要图案，下玻璃上铜层与下玻璃下铜层利用在光罩上设计MARK进行套合刻蚀成所需要图案。