[发明专利]流体处理装置

权利要求书

1.一种流体处理装置，其特征在于，具有基板和与所述基板的一个面粘接的薄膜，所述基板具有：

样本流路槽，其用于与所述薄膜一起形成用于供样本流动的样本流路；

分散剂流路槽，其用于与所述薄膜一起形成用于供分散剂流动的分散剂流路；

分散液生成凹部，其用于与所述薄膜一起形成分散液生成部，所述分散液生成部与所述样本流路及所述分散剂流路连接，并用于将所述样本利用所述分散剂分离来生成所述样本的液滴分散于所述分散剂中的分散液；以及

分散液流路槽，其用于与所述薄膜一起形成分散液流路，所述分散液流路与所述分散液生成部连接，并用于供所述分散液流动，

所述薄膜在与所述样本流路槽、所述分散剂流路槽、所述分散液生成凹部以及所述分散液流路槽相对的部分含有由包覆件包覆着的粘接剂。

2.如权利要求1所述的流体处理装置，其中，

所述薄膜通过所述粘接剂与所述基板的所述一个面粘接。

3.如权利要求1或2所述的流体处理装置，其中，

由所述包覆件包覆着的粘接剂是装入胶囊内的粘接剂。

4.如权利要求1～3中任意一项所述的流体处理装置，其中，

在由所述包覆件包覆着的粘接剂受到压力时，所述压力使得所述包覆件破裂，从而粘接剂露出。

5.如权利要求1～4中任意一项所述的流体处理装置，其中，

所述样本流路是用于供含有固体的样本流动的流路。