[发明专利]一种光学水印成像装置及防伪设备有效

专利信息
申请号: 202110203116.5 申请日: 2021-02-22
公开(公告)号: CN112764137B 公开(公告)日: 2022-09-09
发明(设计)人: 李桂林;汪昱坤;张静;刘畅;葛宏伟 申请(专利权)人: 武汉华工图像技术开发有限公司
主分类号: G02B3/00 分类号: G02B3/00
代理公司: 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 代理人: 张萌
地址: 430000*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 光学 水印 成像 装置 防伪 设备
【权利要求书】:

1.一种光学水印成像装置,其特征在于,包括:

微透镜层,由多个微透镜排列而成;

成像载体,设置在所述微透镜层下方;

图文层,设置在所述成像载体下方,所述图文层嵌入有多个微图文结构;每个所述微图文结构中均设置有n个编码区域,且每个所述微图文结构中所设置的n个编码区域的设置位置相同,每个所述微图文结构中的n个编码区域对应一个像素点的成像;每个所述微图文结构中的n个编码区域对应的像素点组合形成水印编码图案;

每个所述微图文结构中设置的n个编码区域通过n×m的布尔矩阵将所述水印编码图案进行转化后得到;

其中,n表示将所述水印编码图案中的每个像素点划分为所述编码区域的份数;所述水印编码图案中的一个像素点对应一个或者多个微图文结构;m表示每份所述编码区域的像素点。

2.根据权利要求1所述的光学水印成像装置,其特征在于,所述多个微透镜采用正六边形交错的排列方式排列。

3.根据权利要求1所述的光学水印成像装置,其特征在于,所述微透镜层的顶部到所述图文层的距离等于所述微透镜的焦距;

所述微透镜的焦距为:

其中,f表示所述微透镜的焦距,N表示折射率,R表示所述微透镜的曲率半径;所述微透镜的曲率半径为:

其中,h表示所述微透镜的厚度,l为所述微透镜的直径。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的光学水印成像装置,其特征在于,所述微透镜的直径为29微米;相邻的所述微透镜的之间的距离为1微米。

5.根据权利要求1所述的光学水印成像装置,其特征在于,所述图文层中的微图文结构与所述微透镜层中的微透镜在位置上一一对应设置。

6.根据权利要求1所述的光学水印成像装置,其特征在于,n的数值为2,m的数值为4。

7.根据权利要求6所述的光学水印成像装置,其特征在于,每个所述微图文结构中设置的2个编码区域的设置位置为:L=f×tan(θ);

其中,L为每个所述微图文结构中的编码区域距离焦点的距离,f为所述微透镜的焦距,θ表示人眼的视角。

8.根据权利要求7所述的光学水印成像装置,其特征在于,每个所述微图文结构中的第一个编码区域的设置位置对应的人眼视角为30度,每个所述微图文结构中的第二个编码区域的设置位置对应的人眼视角为35度。

9.一种防伪设备,其特征在于,包括主体以及设置在所述主体上的如权利要求1-8中任一项所述的光学水印成像装置。

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