[发明专利]一种孔隙率可控多孔硅的绿色的制备方法及其应用在审
申请号: | 202110205124.3 | 申请日: | 2021-02-24 |
公开(公告)号: | CN113003577A | 公开(公告)日: | 2021-06-22 |
发明(设计)人: | 冯金奎;安永灵;田园 | 申请(专利权)人: | 山东大学 |
主分类号: | C01B33/021 | 分类号: | C01B33/021;H01G11/24;H01G11/30;H01M4/38 |
代理公司: | 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 | 代理人: | 王志坤 |
地址: | 250061 山东*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 孔隙率 可控 多孔 绿色 制备 方法 及其 应用 | ||
1.一种孔隙率可控多孔硅的绿色的制备方法,其特征是,包括:
步骤(1):将硅化镁合金置于氮气或氨气气氛中进行热处理;
步骤(2):再经惰性气氛保护高温处理或低压低温处理得到多孔硅。
2.如权利要求1所述的一种孔隙率可控多孔硅的绿色的制备方法,其特征是,步骤(1)中,选择氨气进行热处理。
3.如权利要求1所述的一种孔隙率可控多孔硅的绿色的制备方法,其特征是,所述步骤(1)中,热处理的温度为700℃~850℃。
4.如权利要求3所述的一种孔隙率可控多孔硅的绿色的制备方法,其特征是,热处理温度为800℃。
5.如权利要求1所述的一种孔隙率可控多孔硅的绿色的制备方法,其特征是,所述步骤(1)中,热处理的时间为1h~4h。
6.如权利要求5所述的一种孔隙率可控多孔硅的绿色的制备方法,其特征是,热处理的时间为2h。
7.如权利要求1所述的一种孔隙率可控多孔硅的绿色的制备方法,其特征是,所述步骤(2)中,惰性气氛选自氮气、氨气、氩气中的一种或两种以上。
8.如权利要求1所述的一种孔隙率可控多孔硅的绿色的制备方法,其特征是,所述步骤(2)中,惰性气氛保护高温处理时,处理温度为900℃~1200℃,优选的,为1000。
9.如权利要求1所述的一种孔隙率可控多孔硅的绿色的制备方法,其特征是,所述步骤(2)中,惰性气氛保护高温处理时,处理时间为0.1h-2h;优选的,为0.5h;
或,所述步骤(2)中,低压低温处理的温度是700℃~900℃;优选的,为800℃;
或,所述步骤(2)中,低压低温处理的时间为0.1h~2h,优选的,为0.5h。
10.权利要求1-9任一项所述的一种孔隙率可控多孔硅的绿色的制备方法和/或该方法制备的多孔硅在多孔硅在电池、超级电容器中的应用,不同孔隙率的多孔硅可满足不同领域的需要。
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