[发明专利]台面烹饪系统

权利要求书

1.一种能定位在支撑表面上的烹饪系统，所述烹饪系统包括：

壳体，其具有中空室，所述中空室包括用于接收食品的内部烹饪室；

至少一个辐射加热元件，其布置在所述中空内部内且能用于加热所述烹饪室；以及

对流加热器，其安置在所述中空室内且能用于加热所述烹饪室；

其中所述烹饪系统能在对流烹饪模式下操作，并且在所述对流烹饪模式期间，所述至少一个辐射加热元件选择性地通电。

2.根据权利要求1所述的烹饪系统，其中所述对流烹饪模式的烹饪周期包括所述对流加热器通电的至少一个对流烹饪段，以及所述至少一个辐射加热元件通电的至少一个脉冲段。

3.根据权利要求2所述的烹饪系统，其中所述对流加热器包括对流加热元件，并且在所述至少一个脉冲段期间，所述对流加热元件断电。

4.根据权利要求2所述的烹饪系统，其中所述对流加热系统还包括空气移动装置和对流加热元件，所述对流加热元件用于加热由所述空气移动装置移动的气流，并且在所述至少一个脉冲段期间，所述空气移动装置通电，同时所述对流加热元件断电。

5.根据权利要求2所述的烹饪系统，其中在所述至少一个脉冲段期间，提供到所述至少一个辐射加热元件的功率小于与所述至少一个辐射加热元件的操作相关联的全功率。

6.根据权利要求5所述的烹饪系统，其中在所述至少一个脉冲段期间，所述至少一个辐射加热元件以所述全功率的约50％操作。

7.根据权利要求2所述的烹饪系统，其中所述至少一个脉冲段的时间短于所述至少一个对流烹饪段的时间。

8.根据权利要求2所述的烹饪系统，其中所述至少一个脉冲段在所述烹饪周期内以预定间隔发生。

9.根据权利要求2所述的烹饪系统，其中所述至少一个脉冲段是响应于检测到所感测条件而启动的。

10.根据权利要求9所述的烹饪系统，其中所述所感测条件包括食物副产物在所述至少一个辐射加热元件上的积聚。

11.根据权利要求2所述的烹饪系统，其中在脉冲段期间递送到所述至少一个辐射加热元件的功率小于在所述对流烹饪段期间递送到所述对流加热器的功率。

12.根据权利要求2所述的烹饪系统，其中所述脉冲段的时间少于所述对流烹饪段的时间。

13.根据权利要求12所述的烹饪系统，其中所述对流烹饪段大约是脉冲段的三倍长。

14.根据权利要求1所述的烹饪系统，其中所述至少一个辐射加热元件包括邻近所述烹饪室的顶板布置的第一辐射加热元件和邻近所述烹饪室的底板布置的第二辐射加热元件。

15.根据权利要求14所述的烹饪系统，其中在所述对流烹饪模式期间，所述第二辐射加热元件选择性地通电以清洁所述第二辐射加热元件。

16.根据权利要求14所述的烹饪系统，其中在所述对流烹饪模式期间，所述第一辐射加热元件和所述第二辐射加热元件都选择性地通电以清洁所述第二辐射加热元件。

17.根据权利要求1所述的烹饪系统，其中所述对流加热系统远离所述内部烹饪室定位。

18.根据权利要求1所述的烹饪系统，其中所述中空内部包括与所述烹饪室流体连通的对流室，所述对流加热布置在所述对流室内。