[发明专利]一种设备保养剂以及设备的保养方法

权利要求书

1.一种设备保养剂，其特征在于，包括：

八笼型倍半硅氧烷涂层，质量百分数为0.5-30％；

树脂，质量百分数为40-80％；

单体，质量百分数为0.1-20％；以及

光引发剂，质量百分数为1-10％。

2.根据权利要求1所述的设备保养剂，其特征在于，

所述八笼型倍半硅氧烷涂层的分子结构式为

其中，所述R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8均包括聚二甲基硅氧烷类衍生物、辛基[(3-环氧丙氧基丙基)二甲基甲硅烷]氧基辛基倍半硅氧烷、异辛基多面体低聚倍半硅氧烷中的任一种。

3.根据权利要求2所述的设备保养剂，其特征在于，

所述聚二甲基硅氧烷类衍生物的分子结构式为

其中，n为1-50；且Si支链包括：甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、叔丁基中的任一种。

4.根据权利要求1所述的设备保养剂，其特征在于，

所述树脂包括环氧丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、甲基丙烯酸羟乙酯中的任一种。

5.根据权利要求1所述的设备保养剂，其特征在于，

所述单体包括丙烯酸异辛酯和/或丙烯酸酯。

6.根据权利要求1所述的设备保养剂，其特征在于，

所述光引发剂包括肟脂衍生物、双咪唑衍生物、苯乙酮衍生物中的任一种。

7.一种设备的保养方法，其特征在于，包括如下步骤：

提供一设备和如权利要求1-6任一项所述的设备保养剂；

涂布所述设备保养剂于所述设备的表面以使所述设备保养剂在所述设备的表面形成一液态保养层；以及

对所述液态保养层进行光照处理，形成固态保养层。

8.根据权利要求7所述的设备的保养方法，其特征在于，

在所述涂布所述设备保养剂于一设备的表面步骤之前还包括包括如下步骤：

采用丙酮擦拭所述设备的表面；

采用无尘布擦拭所述设备的表面进行二次清洁处理。

9.根据权利要求8所述的设备的保养方法，其特征在于，

在所述形成固态保养层的步骤中，采用紫外光照射所述液态保养层1-20分钟，形成所述固态保养层。

10.根据权利要求7所述的设备的保养方法，其特征在于，所述设备包括清洗设备、涂布设备、热烤设备、曝光设备、显影设备以及修补设备。