[发明专利]显示基板及其制备方法、显示装置

权利要求书

1.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板包括：

柔性透光基底；所述柔性透光基底的一侧具有多个凹槽；

设置在所述柔性透光基底一侧的遮光层；所述遮光层包括多个遮光图案，一个遮光图案位于一个凹槽内；所述遮光图案包括第一子遮光图案和第二子遮光图案，所述第一子遮光图案覆盖在所述凹槽的侧壁上，所述第二子遮光图案覆盖在所述凹槽的底面上；以及，

设置在所述遮光层远离所述柔性透光基底一侧的多个子像素；各子像素包括像素驱动电路和发光器件；

其中，所述像素驱动电路包括多个晶体管，一个晶体管的有源层位于一个凹槽内；一个凹槽内设置有多个有源层；所述多个有源层属于至少一个像素驱动电路中的晶体管；相对于所述柔性透光基底，所述有源层靠近所述柔性透光基底的一侧表面，低于所述第一子遮光图案远离所述柔性透光基底的一侧表面。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，相对于所述柔性透光基底，所述有源层远离所述柔性透光基底的一侧表面，与所述第一子遮光图案远离所述柔性透光基底的一侧表面持平，或者，低于所述第一子遮光图案远离所述柔性透光基底的一侧表面。

3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一子遮光图案和所述第二子遮光图案之间的夹角大于或等于90°。

4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括：设置在所述柔性透光基底和所述多个子像素之间的阻隔层；

所述阻隔层具有多个开口，所述多个开口暴露所述多个凹槽；

所述第一子遮光图案在所述柔性透光基底上的正投影，与所述阻隔层在所述柔性透光基底上的正投影相切或部分重叠。

5.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述遮光层包括金属层；

所述遮光层接地设置。

6.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括：设置在所述遮光图案和所述有源层之间的缓冲层；

所述缓冲层覆盖所述第一子遮光图案和所述第二子遮光图案；

沿平行于所述柔性透光基底的方向，所述第一子遮光图案和所述有源层之间具有间距。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的显示基板，其特征在于，所述晶体管的栅极位于所述晶体管的有源层远离所述柔性透光基底的一侧。

8.一种显示基板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：

提供柔性透光薄膜；

对所述柔性透光薄膜进行图案化处理，形成多个凹槽，得到柔性透光基底；

在所述柔性透光基底的一侧形成遮光层；所述遮光层包括多个遮光图案，一个遮光图案位于一个凹槽内；所述遮光图案包括第一子遮光图案和第二子遮光图案，所述第一子遮光图案覆盖在所述凹槽的侧壁上，所述第二子遮光图案覆盖在所述凹槽的底面上；

在所述遮光层远离所述柔性透光基底的一侧形成多个子像素；各子像素包括像素驱动电路和发光器件；

其中，所述像素驱动电路包括多个晶体管，一个晶体管的有源层位于一个凹槽内；一个凹槽内设置有多个有源层；所述多个有源层属于至少一个像素驱动电路中的晶体管；相对于所述柔性透光基底，所述有源层靠近所述柔性透光基底的一侧表面，低于所述第一子遮光图案远离所述柔性透光基底的一侧表面。

9.根据权利要求8所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述对所述柔性透光薄膜进行图案化处理，形成多个凹槽，包括：

在所述柔性透光薄膜的一侧形成阻隔薄膜；

在所述阻隔薄膜远离所述柔性透光薄膜的一侧形成第一光刻胶层；

对所述第一光刻胶层进行图案化，以图案化后的第一光刻胶层为掩膜，对所述阻隔薄膜进行图案化，形成多个开口，得到阻隔层；

以所述阻隔层为掩膜，对所述柔性透光薄膜进行图案化，形成多个凹槽，得到所述柔性透光基底。